[发明专利]一种超导体聚焦同步回旋加速器的设计方法在审
申请号: | 201310137723.1 | 申请日: | 2013-04-20 |
公开(公告)号: | CN103228093A | 公开(公告)日: | 2013-07-31 |
发明(设计)人: | 胡明建;胡乐村 | 申请(专利权)人: | 胡明建;胡乐村 |
主分类号: | H05H13/02 | 分类号: | H05H13/02 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 325100 浙江省温*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 超导体 聚焦 同步回旋加速器 设计 方法 | ||
1.一种超导体磁聚焦同步回旋加速器的设计方法,其特征是,通过把磁力线聚焦到半径为r的圆上,使被加速的带电粒子通过的真空管的磁场强度增加到原来的几千倍,有2种方法,一种就是超导体磁透射的方法,另一种是用超导体对磁反射达到聚焦,这二种方法多可以实现,磁透射聚焦的方法是,给超导体线圈一个电压,超导体就会产生电流,调节电流的大小,就可以改变超导体线圈产生磁场的强度,在超导体线圈的下面是聚焦超导体,聚焦超导体具有这样的属性,当一定强度的磁力线照射到它上面,它就会把磁力线聚焦到某些区域,经过特殊设计把这些区域正好落在人为设定半径为 r的圆上进行聚焦,并且要求在这个半径为r的圆上通过超导体的磁力线要均匀,因此在穿过磁聚焦下面的真空管的磁力线也均匀,这样改变超导体线圈的电流强度,就可以改变通过加速器回旋通道真空管的磁场强度,磁聚焦使穿过真空管的磁力线的密度增加几千倍,所以加速器的半径就减少到原来的几千分之一,磁反射聚焦的方法是,根据超导体对磁力线有排斥作用,让磁力线聚焦起来,其他的方法和磁透射聚焦一样。
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