[发明专利]一种图案化石墨烯导电薄膜的制备方法有效
申请号: | 201310141227.3 | 申请日: | 2013-04-23 |
公开(公告)号: | CN103236295A | 公开(公告)日: | 2013-08-07 |
发明(设计)人: | 黄磊;王振平;林有杰 | 申请(专利权)人: | 上海师范大学 |
主分类号: | H01B5/14 | 分类号: | H01B5/14;H01B1/04;B41M1/10;H01B13/00 |
代理公司: | 上海伯瑞杰知识产权代理有限公司 31227 | 代理人: | 吴瑾瑜 |
地址: | 200234 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 图案 化石 导电 薄膜 制备 方法 | ||
1.一种图案化石墨烯导电薄膜的制备方法,其步骤包括:
(1)将柔性衬底洗净、吹干,用等离子体对柔性衬底处理;
(2)采用凹版印刷工艺,将Hummers法制得的氧化石墨烯油墨印刷在步骤(1)中得到的柔性衬底上,将其放在烘箱中干燥,得到氧化石墨烯薄膜;
(3)将步骤(2)中制得的氧化石墨烯薄膜进行还原处理,即制得图案化石墨烯导电薄膜。
2.根据权利要求1所述的图案化石墨烯导电薄膜的制备方法,其特征在于:所述步骤(1)中的柔性衬底为聚酰亚胺(PI)、聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)或纸中的一种。
3.根据权利要求1所述的图案化石墨烯导电薄膜的制备方法,其特征在于:所述步骤(1)中,用等离子体对柔性衬底进行刻蚀处理时的气流量为5-200sccm,功率为5-120W,刻蚀时间为5-600s。
4.根据权利要求1所述的图案化石墨烯导电薄膜的制备方法,其特征在于:所述步骤(1)中的等离子体为氧等离子体,氩等离子体或者氮等离子。
5.根据权利要求1所述的图案化石墨烯导电薄膜的制备方法,其特征在于:所述步骤(2)中,氧化石墨烯油墨的浓度为15-80mg/mL。
6.根据权利要求1所述的图案化石墨烯导电薄膜的制备方法,其特征在于:所述步骤(2)中,干燥温度为30℃-100℃,干燥时间为10-50分钟。
7.根据权利要求1所述的图案化石墨烯导电薄膜的制备方法,其特征在于:所述步骤(3)中,还原处理方式为热退火还原、激光照射还原及化学试剂还原中的一种。
8.根据权利要求7所述的图案化石墨烯导电薄膜的制备方法,其特征在于:所述热退火还原的步骤为,将氧化石墨烯薄膜置于真空惰性环境中,100℃-550℃温度下退火处理0.5-12小时。
9.根据权利要求7所述的图案化石墨烯导电薄膜的制备方法,其特征在于:所述激光照射还原的步骤为,将氧化石墨薄烯膜置于脉冲激光环境中,在频率为7-12Hz,能量密度为100-350mJ/cm2条件下照射5-300分钟。
10.根据权利要求7所述的图案化石墨烯导电薄膜的制备方法,其特征在于:所述化学试剂还原的步骤为,将氧化石墨烯薄膜置于含有水合肼和氨的混合蒸汽环境中,90℃下反应5-180分钟。
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