[发明专利]双层复合材料的上层材料X射线衍射谱的获取方法无效

专利信息
申请号: 201310142481.5 申请日: 2013-04-23
公开(公告)号: CN103207193A 公开(公告)日: 2013-07-17
发明(设计)人: 朱远志;王鹏 申请(专利权)人: 武汉科技大学
主分类号: G01N23/20 分类号: G01N23/20
代理公司: 武汉科皓知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 42222 代理人: 张火春
地址: 430081 *** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 双层 复合材料 上层 材料 射线 衍射 获取 方法
【权利要求书】:

1.一种双层复合材料的上层材料X射线衍射谱的获取方法,其特征在于所述方法是:

先在室温条件下用X射线衍射仪测量双层复合材料的上表面材料,得到上表面材料的X射线衍射强度数据,把所获得的衍射强度数据经Jade软件处理得到上表面材料衍射谱;

该上表面材料的X射线衍射强度数据的数学模型为

I0=f0(2θ)    (1)

式(1)中:θ为测上表面材料时的X射线入射角;

再在室温条件下用X射线衍射仪测量双层复合材料的基体材料,两次测量时的衍射仪主要参数相同;得到该基体材料的X射线衍射强度数据,把所获得的衍射强度数据经Jade软件处理得到基体材料衍射谱;

该基体材料的X射线衍射强度数据的数学模型为

I1=f1(2θ')    (2)

式(2)中:θ'为测基体材料时的X射线入射角,由于两次测量时衍射仪扫测的范围和步长一样,即θ'=θ;

则该基体材料的X射线衍射强度数据的数学模型为

I1=f1(2θ)    (3)

然后根据式(1)、(3),得双层复合材料的上层材料的X射线衍射强度数据的数学模型为

I=f1(2θ)-af0(2θ)    (4)

式(4)中:a为第一次测量的上表面材料和第二次测量的基体材料中某一相同物相在同一2θ处的特征峰强度的比值或积分强度的比值,所选取的同一2θ处不存在重叠峰;

最后将式(4)计算所获得的上层材料的X射线衍射强度数据用Jade软件处理,即得双层复合材料上层材料的X射线衍射谱。

2.根据权利要求1所述双层复合材料的上层材料X射线衍射谱的获取方法,其特征在于所述双层复合材料是采用机械粘合或气相沉积或喷镀方法制备的双层复合材料,双层复合材料的基体材料为晶体状态。

3.根据权利要求1所述双层复合材料的上层材料X射线衍射谱的获取方法,其特征在于所述的上表面材料为覆着在基体材料上表面的上层材料和未被上层材料覆着而裸露的基体材料。

4.根据权利要求1所述双层复合材料的上层材料X射线衍射谱的获取方法,其特征在于所述的衍射仪主要参数为:电压、电流、X射线入射强度、靶材、扫测方式、扫测范围、扫描速度、时间常数、步长、滤波片或单色器类型、发散狭缝光阑宽度和接受狭缝光阑宽度。

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