[发明专利]用于驱动磁控管的驱动机构及磁控溅射加工设备

权利要求书

1.一种用于驱动磁控管的驱动机构，其特征在于，所述驱动机构包括旋转驱动源、传动轴和直线驱动源，其中

所述直线驱动源用于采用液压驱动的方式驱动所述磁控管沿垂直于所述传动轴的方向作直线往复运动；

所述旋转驱动源的驱动轴借助所述传动轴与所述直线驱动源固定连接，用以在所述磁控管作直线往复运动的同时，驱动所述磁控管围绕所述传动轴作旋转运动。

2.根据权利要求1所述的用于驱动磁控管的驱动机构，其特征在于，所述直线驱动源包括缸体、活塞和活塞杆，其中

所述活塞位于所述缸体内，且在垂直于所述传动轴的方向上与所述缸体可滑动地连接，并且所述活塞与所述缸体的内周壁滑动密封，以将所述缸体沿垂直于所述传动轴的方向依次分割为彼此独立且密封的第一空间和第二空间；

所述活塞杆的一端位于所述第一空间内且与所述活塞固定连接，所述活塞杆的另一端沿垂直于所述传动轴的方向延伸至所述缸体的外部，且与所述磁控管固定连接；

在所述传动轴的内部形成有液压通道，用以向所述第一空间内输送液体，或排出所述第一空间内的液体；并且，在所述第二空间内且位于所述活塞与缸体之间设置有弹性部件，用以在垂直于所述传动轴的方向上对所述活塞施加弹力。

3.根据权利要求2所述的用于驱动磁控管的驱动机构，其特征在于，所述直线驱动源还包括管路和液压源，其中

所述管路的输出端与所述液压通道的入口连通，所述管路的输入端与所述液压源连通；在所述管路上串接有排液支路，并且在所述排液支路上设置有用于接通或断开所述排液支路的阀门，所述第一空间内的液体在所述阀门接通所述排液支路时，经由所述液压通道、管路和排液支路排出；

所述液压源用于在所述阀门断开所述排液支路时经由所述管路向所述液压通道提供液体。

4.根据权利要求3所述的用于驱动磁控管的驱动机构，其特征在于，所述驱动机构还包括控制单元，所述控制单元用于控制所述阀门断开所述排液支路，同时控制所述液压源经由所述管路向所述液压通道提供液体，控制所述阀门接通所述排液支路，同时控制所述液压源停止向所述液压通道提供液体，以及控制所述液压源的供给量，以调节充满在所述第一空间内的液体容积。

5.根据权利要求3所述的用于驱动磁控管的驱动机构，其特征在于，所述液压源包括液压泵。

6.根据权利要求1所述的用于驱动磁控管的驱动机构，其特征在于，基于所述直线驱动源驱动所述磁控管沿垂直于所述传动轴的方向运动所到达的各个预定位置，以及所述旋转驱动源的转速而获得所述磁控管的运动轨迹。

7.根据权利要求6所述的用于驱动磁控管的驱动机构，其特征在于，采用自动或手动的方式控制所述直线驱动源驱动所述磁控管沿垂直于所述传动轴的方向运动至预定位置，以及控制所述旋转驱动源的转速。

8.一种磁控溅射加工设备，包括反应腔室，在所述反应腔室的顶端设有靶材，并且在所述靶材的上方设有磁控管以及用于驱动所述磁控管的驱动机构，其特征在于，所述驱动机构采用了权利要求1-7任意一项所述的驱动机构。

9.根据权利要求8所述的磁控溅射加工设备，其特征在于，在所述反应腔室内的顶端设置有充满有冷却液体的冷却腔体，用以冷却所述靶材；

所述磁控管、缸体、活塞和活塞杆均位于所述冷却腔体内，所述旋转驱动源位于所述冷却腔体的上方；

所述传动轴的一端与所述缸体固定连接，并且在所述冷却腔体的顶壁上且与所述传动轴相对应的位置处设置有贯穿所述顶壁的安装孔，所述传动轴的另一端穿过所述安装孔，并与所述旋转驱动源的驱动轴固定连接。

10.根据权利要求9所述的磁控溅射加工设备，其特征在于，在所述传动轴上套制有密封套，所述传动轴借助所述密封套与所述冷却腔体的顶壁固定连接；

在所述密封套的内周壁与所述传动轴的外周壁之间形成有分别与所述液压通道的入口和所述管路的输出端连通的环形空间，并且在所述密封套的内周壁与所述传动轴的外周壁之间，且分别位于所述环形空间的上方和下方设置有密封件，用以密封所述环形空间。

11.根据权利要求10所述的磁控溅射加工设备，其特征在于，所述密封套采用螺纹连接或焊接的方式与所述冷却腔体的顶壁固定连接；并且

在所述密封套的下表面与所述顶壁的上表面之间设置有密封件，用以对二者之间的间隙进行密封。