[发明专利]光掩模、图案转印方法以及平板显示器的制造方法

权利要求书

1.一种光掩模，该光掩模在透明基板上具备转印用图案，该转印用图案具有透光部、形成有曝光光的一部分透射的半透光膜的半透光部以及形成有遮光性的膜的遮光部，

所述光掩模的特征在于，

所述半透光膜相对于在所述转印用图案的转印中使用的曝光光的代表波长具有2%～60%的透射率，且具有90°以下的相移作用，

所述半透光部与所述遮光部的边缘邻接，且形成为无法由曝光装置析像的宽度。

2.根据权利要求1所述的光掩模，其特征在于，

所述半透光部具有与所述遮光部的对置的边缘分别邻接地设置的第一半透光部以及第二半透光部，所述第一半透光部的宽度以及所述第二半透光部的宽度分别形成为无法由曝光装置析像的恒定宽度，且是彼此相等的宽度。

3.根据权利要求1所述的光掩模，其特征在于，

所述转印用图案是线条图案，在被转印体上形成线宽或者空间宽度小于3μm的线条。

4.根据权利要求1所述的光掩模，其特征在于，

所述半透光部在由连续的所述遮光部包围的区域中与所述遮光部的边缘邻接形成，且形成为无法由曝光装置析像的恒定宽度。

5.根据权利要求1所述的光掩模，其特征在于，

所述转印用图案是孔图案，在被转印体上形成具有小于3μm的内径的孔。

6.一种图案转印方法，其特征在于，

使用权利要求1～5中任一项所述的光掩模，利用曝光装置将所述转印用图案转印到被转印体上。

7.一种平板显示器的制造方法，其特征在于，

在所述平板显示器的制造方法中，使用权利要求6所述的图案转印方法。