[发明专利]缓冲装置无效
申请号: | 201310154922.3 | 申请日: | 2013-04-28 |
公开(公告)号: | CN103230986A | 公开(公告)日: | 2013-08-07 |
发明(设计)人: | 沈皓然 | 申请(专利权)人: | 苏州工业园区高登威科技有限公司 |
主分类号: | B21D55/00 | 分类号: | B21D55/00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 215121 江苏省苏州市苏州工*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 缓冲 装置 | ||
技术领域
本发明属于机械加工领域,尤其涉及一种缓冲装置。
背景技术
铆压机和冲床等设备上通常有一个机头,加工时,机头会在动力设备的驱动下逐渐向工件移动,先抵靠在工件上,然后继续移动,从而完成对工件的铆压、冲压等作业。机头通常是直接撞击在工件上,这种撞击会产生很大的冲击力,容易造成设备某些部位由于受到冲击力而变形或损坏。
发明内容
本发明的目的在于提供一种解决上述技术问题的缓冲装置。
其中,该缓冲装置,包括:底座;
支撑块,其固定于所述底座上;
弹簧;
所述缓冲装置的受力点为支撑块,所述弹簧起缓冲作用。
作为本发明的进一步改进,所述支撑块的数量为两个。
作为本发明的进一步改进,所述缓冲装置还包括两层承载板,所述两层承载板之间设有所述弹簧。
作为本发明的进一步改进,所述底座上还设置有滑轨。
作为本发明的进一步改进,所述滑轨上设有滑块。
作为本发明的进一步改进,所述两层承载板的其中一层和支撑块接触,另一层和所述底座上的滑轨接触。
作为本发明的进一步改进,所述支撑块的高度比所述滑轨上的滑块的高度高。
与现有技术相比,本发明采用缓冲装置,使机头对工件铆压的冲击力直接作用在基底的支撑块上,而不是直接作用在基底的滑轨上,这就大大降低了机头对滑轨的冲击力,避免了滑轨的损坏。
附图说明
图1是本发明一实施方式中缓冲装置的整体示意图。
图2是本发明一实施方式中缓冲装置的局部放大图。
图3是本发明一实施方式中缓冲装置去掉两层承载板的示意图。
图4是本发明一实施方式中缓冲装置的上层承载板的结构示意图。
图5是本发明一实施方式中缓冲装置的下层承载板的结构示意图。
具体实施方式
以下将结合附图所示的具体实施方式对本发明进行详细描述。但这些实施方式并不限制本发明,本领域的普通技术人员根据这些实施方式所做出的结构、方法、或功能上的变换均包含在本发明的保护范围内。
参图1所示,在本发明一实施方式中,是涉及到铆接设备上的缓冲装置,该缓冲装置包括底座10;支撑块102、103,分别固定于所述底座10上;弹簧30;该缓冲装置的受力点为支撑块102、103,所述弹簧30起缓冲作用。
参图2所示,铆接设备上的缓冲装置还包括二层承载板201、202以及滑轨101,滑轨上设有滑块1011,上层承载板201与下层承载板202之间设有弹簧,上层承载板201(图5)直接与底座上的支撑块102、103接触,下层承载板202直接与滑轨101上的滑块1011接触,并且下层承载板202的结构如图6所示,下层承载板202上有一个豁口2021,此豁口2021正好与支撑块的大小相匹配,可以把下层承载板202套在支撑块102、103上。如图3所示,支撑块102、103的高度比所述滑轨101上的滑块1011的高度高,当有铆压冲击力到达上层承载板201时,实际的受力点在支撑块102、103上。
设备进行铆接时,机头50向下压铆接工位40,由于铆接工位与上层承载板201直接接触,所以,铆压的冲击力直接传递给上层承载板201,上层承载板201与固定在底座10上的支撑块102、103接触,所以,铆压的冲击力直接通过支撑块102、103传递到了底座10上,由于二层承载板201、202直接设有弹簧30,所以当铆压冲击力传递到上层承压板201时,由于支撑块102、103的高度比所述滑轨101上的滑块1011的高度高,当有铆压冲击力到达上层承载板201时,实际的受力点在支撑块102、103上,上层承载板201与下层承载板202之间的弹簧30可以把铆压的冲击力缓冲掉一部分,下层承压板202实际上受到的铆压冲击力就已经很小了,这么微小的力不足以对与下层承压板202直接接触的滑轨101以及滑轨101上的滑块1011造成损伤。
应当理解,虽然本说明书按照实施方式加以描述,但并非每个实施方式仅包含一个独立的技术方案,说明书的这种叙述方式仅仅是为清楚起见,本领域技术人员应当将说明书作为一个整体,各实施方式中的技术方案也可以经适当组合,形成本领域技术人员可以理解的其他实施方式。
上文所列出的一系列的详细说明仅仅是针对本发明的可行性实施方式的具体说明,它们并非用以限制本发明的保护范围,凡未脱离本发明技艺精神所作的等效实施方式或变更均应包含在本发明的保护范围之内。
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