[发明专利]一种有机薄膜的喷墨打印方法有效
申请号: | 201310156248.2 | 申请日: | 2013-04-28 |
公开(公告)号: | CN103241025A | 公开(公告)日: | 2013-08-14 |
发明(设计)人: | 王向华;邱龙臻;刘则 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | B41M5/00 | 分类号: | B41M5/00 |
代理公司: | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人: | 黄志华 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 有机 薄膜 喷墨 打印 方法 | ||
1.一种有机薄膜的喷墨打印方法,其特征在于,包括:
调节打印衬底的表面能;
在打印衬底上打印有机薄膜,使得在打印衬底上的液滴均匀铺展。
2.如权利要求1所述的喷墨打印方法,其特征在于,所述使得在打印衬底上的液滴均匀铺展具体为,使得在打印衬底上铺展的液滴直径为打印机喷嘴喷出的球形液滴直径的2~4倍。
3.如权利要求1所述的喷墨打印方法,其特征在于,所述调节打印衬底的表面能具体为在打印衬底表面沿打印列方向或者垂直于打印列方向形成表面能梯度。
4.如权利要求3所述的喷墨打印方法,其特征在于,所述形成表面能梯度包括:
对打印衬底表面进行氟化处理;
通过立体掩膜版,对打印衬底表面进行紫外臭氧清洗,所述立体掩膜版包括具有多个开口的掩膜版基底及设置于掩膜版基底每个开口处的翘片,所述翘片所在平面与掩膜版基底所在平面的夹角为10°~100°,所述开口对应打印衬底上需打印有机薄膜的区域,当透过所述立体掩膜版对打印衬底进行紫外臭氧清洗时,打印衬底上需打印有机薄膜的区域形成表面能梯度。
5.如权利要求1所述的喷墨打印方法,其特征在于,所述调节打印衬底表面能具体为对打印衬底进行疏水处理和/或亲水处理。
6.如权利要求5所述的喷墨打印方法,其特征在于,所述对打印衬底进行疏水处理和/或亲水处理具体为:
对打印衬底进行氟化处理,使得打印衬底表面呈现疏水性;和/或
对打印衬底进行紫外臭氧清洗,使得打印衬底表面呈现亲水性。
7.如权利要求1~6任一项所述的喷墨打印方法,其特征在于,所述有机薄膜采用变列间距打印形成。
8.如权利要求7所述的喷墨打印方法,其特征在于,所述变列间距打印的列间距按照打印列的先后顺序递减。
9.如权利要求1~6任一项所述的喷墨打印方法,其特征在于,所述有机薄膜采用单程多列打印形成。
10.如权利要求9所述的喷墨打印方法,其特征在于,所述单程多列打印为单程三列打印。
11.根据权利要求9所述的喷墨打印方法,其特征在于,所述有机薄膜还采用变行程间距打印。
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