[发明专利]发光二极管制造方法无效
申请号: | 201310158162.3 | 申请日: | 2013-05-02 |
公开(公告)号: | CN104134722A | 公开(公告)日: | 2014-11-05 |
发明(设计)人: | 邱镜学;林雅雯;凃博闵;黄世晟 | 申请(专利权)人: | 展晶科技(深圳)有限公司;荣创能源科技股份有限公司 |
主分类号: | H01L33/00 | 分类号: | H01L33/00;H01L33/10 |
代理公司: | 无 | 代理人: | 无 |
地址: | 518109 广东省深圳市宝*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 发光二极管 制造 方法 | ||
技术领域
本发明涉及一种发光二极管的制造方法。
背景技术
发光二极管(Light Emitting Diode,LED)是一种可将电流转换成特定波长范围的光电半导体元件。发光二极管以其亮度高、工作电压低、功耗小、易与集成电路匹配、驱动简单、寿命长等优点,从而可作为光源而广泛应用于照明领域。
发光二极管晶粒通常包括基板,依次形成在基板之上的缓冲层、N型半导体层、活性层、P型半导体层。然而,活性层发出的朝向基板的光线容易被缓冲层以及基板所吸收,从而降低发光二极管晶粒的整体出光效率。为解决光线被基板以及缓冲层吸收的问题,通常在缓冲层与N型半导体层之间插入一层布拉格反射层,用以将活性层发出的朝向基板的光线反射向上,以增加出光效率。然而,布拉格反射层只能部分反射垂直于基板方向的光线,如果光线偏离垂直于基板的方向,布拉格反射层对该光线的反射效率将会降低。
发明内容
有鉴于此,有必要提供一种可提高元件出光效率的发光二极管的制造方法。
一种发光二极管的制造方法,包括以下步骤:
提供一个基板;
在基板上形成未掺杂的GaN层;
蚀刻未掺杂的GaN层与基板相反的表面形成多个凹槽;
在未掺杂的GaN层的具有凹槽的表面生长布拉格反射层;以及
在布拉格反射的表面依次形成N型GaN层、活性层以及P型GaN层。
在上述发光二极管的制造方法中,由于在未掺杂的GaN层表面形成凹槽以及在具有凹槽的表面上生长布拉格反射层,所述布拉格反射层将形成波浪形的弯曲结构。所述波浪形的布拉格反射层除了反射垂直于基板方向的光线外,亦可对偏离垂直于基板方向的光线进行有效的反射,从而提高发光二极管的出光效率。
附图说明
图1是本发明实施例所提供的发光二极管的制造方法的第一个步骤。
图2是本发明实施例所提供的发光二极管的制造方法的第二个步骤。
图3是本发明实施例所提供的发光二极管的制造方法的第三个步骤。
图4是本发明实施例所提供的发光二极管的制造方法的第四个步骤。
图5是本发明实施例所提供的发光二极管的制造方法的第五个步骤。
主要元件符号说明
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