[发明专利]透明导电性膜及其制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及透明导电性膜及其制造方法，更详细而言，涉及在可见光的短波长区域的透射率高且透明导电膜的图案形状不明显的触摸面板用透明导电性膜，特别是适用于静电容量方式触摸面板的透明导电性膜及其制造方法。

背景技术

可通过与图像显示部直接接触而输入信息的触摸面板将透射光的输入装置配置于各种显示器上，作为代表性的形式，可以列举将两张透明导电基板以透明导电层面对面的方式设置间隙而配置的电阻膜式触摸面板、或利用在透明导电膜和手指之间产生的静电容量的变化的静电容量式类型。

在上述那样的触摸面板的透明导电膜中使用掺杂有氧化锡的氧化铟(下面，有时也简称为“ITO”)等，它们层叠于玻璃基体材料或塑料基体材料等透明基体材料上，构成透明导电基板。

作为透明导电膜，在层叠有ITO等金属氧化物的透明导电基板中，在可见光的短波长区域透射率普遍降低，因此，黄色变强。为了解决该问题，公开了在透明基板和透明导电膜之间设置折射率不同的光学层叠体的方法(专利文献1)。对于透明基体材料的整个面层叠透明导电膜的电阻膜式触摸面板，这是有效的方法。

另一方面，在静电容量式触摸面板中，为了检测手指的触摸位置，将具备被图案化为线状的透明导电膜的两张透明导电性膜以相互交叉的方式配置，形成了格子状的图案。这样得到的静电容量式触摸面板存在具有透明导电膜的部位和没有透明导电膜的部位，且由于透明导电膜的有无，反射率及透射率不同，因此，识别利用两个透明导电性膜形成的透明导电膜的格子状图案，其结果，存在作为显示器的可视性降低的问题。

关于触摸面板的着色防止，在电阻膜式触摸面板中，由于在透明基板的整个面上层叠有透明导电膜，因此，如果力求以整体不产生不适感的级别防止着色，则是充分的。相比之下，在静电容量式触摸面板中，需要降低着色等以达到不识别透明导电膜本身的级别。上述专利文献1所记载的透明导电基板中，难以识别透明导电膜的格子状图案，因此是不充分的。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2011-98563号公报

发明内容

发明要解决的技术问题

如上所述，在静电容量式触摸面板中，当识别由透明导电性膜形成的格子状图案时，会导致触摸面板显示器的可视性降低等不良情况。

本发明是鉴于这种状况下进行的，其目的在于，提供一种在可见光的短波长区域的透射率高且透明导电膜的层叠部分不明显的触摸面板用透明导电性膜，特别是用于静电容量方式触摸面板的透明导电性膜及其制造方法。

为了实现所述目的，本发明人等进行了深入研究，结果得到下述的见解。

发现了一种透明导电性膜，其包含透明基体材料和层叠于所述透明基体材料的至少一面的(C)透明导电膜，所述(C)透明导电膜位于所述透明导电性膜的最表层，所述透明导电性膜中所述(C)透明导电膜的层叠部分与所述透明导电性膜中所述(C)透明导电膜的非层叠部分的反射率之差及透射率之差的绝对值在700nm、550nm及400nm的各波长下为特定值以下时可以适于该目的；而且，该透明导电性膜可以通过在实施特定工序而制作的透明导电膜层叠用膜的最表层层叠透明导电膜来制造。

解决问题的方法

本发明基于上述的见解而完成。

即，本发明提供：

[1]一种透明导电性膜，其是在透明基体材料的至少一面的最表层层叠透明导电膜而成的，其特征在于，所述透明导电膜的层叠部分和非层叠部分的反射率之差及透射率之差的绝对值在各波长700nm、550nm及400nm下为5以下；

[2]如所述[1]项记载的透明导电性膜，其中，在透明基体材料和(C)透明导电膜之间具有(A)低折射率层及折射率比所述(A)低折射率层高的(B)高折射率层；

[3]如所述[2]项记载的透明导电性膜，其中，(A)层的折射率为1.30以上且小于1.60，膜厚为10nm以上且小于150nm，(B)层的折射率为1.60以上且小于2.00，膜厚为30nm以上且小于130nm；及

[4]所述[1]～[3]项中任一项记载的透明导电性膜的制造方法，其特征在于，包含：(a)在透明基体材料的至少一面使用含有活性能量射线固化型化合物的低折射率层用涂布剂及含有活性能量射线固化型化合物的高折射率层用涂布剂，制作由该活性能量射线固化物形成的低折射率层及具有高折射率层的透明导电膜层叠用膜的工序；及(b)在所述(a)工序中得到的透明导电膜层叠用膜的最表层上层叠透明导电膜的工序。

即，本发明包括以下方面。