[发明专利]光硬化性聚硅氧烷组成物、保护膜及具有保护膜的元件

说明书

技术领域

本发明涉及一种光硬化性聚硅氧烷组成物，特别涉及一种包含聚硅氧烷组分及芴衍生物组分的光硬化性聚硅氧烷组成物、由此光硬化性聚硅氧烷组成物所形成的保护膜，及具有保护膜的元件。

背景技术

近年来，在半导体工业、液晶显示器或有机电激发光显示器用集成电路的领域中，随着尺寸的日益缩小化，对于光刻制程中所需的图案的微细化更甚要求。为了达到微细化的图案，一般是通过具有高分辨率及高感度的正型感光性材料经曝光及显影后而形成，且以聚硅氧烷高分子为成分的正型感光性材料渐成为业界使用的主流。

日本特开2008-107529号揭示一种形成硬化膜用的感光性树脂组成物。该组成物包含聚硅氧烷高分子、醌二叠氮磺酸酯及溶剂。该聚硅氧烷高分子是由含环氧丙烷基或丁二酸酐基的硅烷单体经加水分解且部分缩合所获得。虽上述专利中的感光性树脂组成物于光刻制程中的感度可被业界所接受，但由其所形成的硬化膜耐化学性不佳，且当清洗制程的产能满载时，使得硬化膜于显影制程后无法立即进行清洗处理，导致该硬化膜上长久残留显影液，继而造成该硬化膜的图案易受显影液影响而毁损，使得该硬化膜不具有耐显影性的特性。

由上述可知，目前仍有需要发展出一种具有较佳耐化学性及耐显影性的保护膜，及形成该保护膜的感光性树脂组成物，以满足业界的需求。

发明内容

本发明的第一目的在于提供一种光硬化性聚硅氧烷组成物。

本发明光硬化性聚硅氧烷组成物，包含：

聚硅氧烷组分(A)，包括至少一个具有至少一个烯基的聚硅氧烷高分子；

醌二叠氮系化合物(B)；

芴衍生物组分(C)，包括至少一个具有至少一个含双键基团的芴衍生物；及

溶剂(D)。

本发明光硬化性聚硅氧烷组成物，所述具有至少一个含双键基团的芴衍生物由式(I)所示，

于式(I)中，R¹⁰至R¹⁷为相同或不同，且各自表示氢、卤素原子、氰基或烷基；R¹⁸及R²²为相同或不同，且各自表示芳香基或杂环基；R¹⁹及R²³为相同或不同，且各自表示单键或有机基团；R²⁰及R²⁴为相同或不同，且各自表示氢或甲基；R²¹及R²⁵为相同或不同，且各自表示氢、卤素原子、烷基、环烷基、芳香基、烷基芳香基、烷氧基、环烷基氧基、芳香氧基、酰基、硝基、氰基或氨基；x及y各自表示1至3的整数；w及t各自表示0至3的整数。

本发明光硬化性聚硅氧烷组成物，所述具有至少一个含双键基团的芴衍生物由式(II)所示，

于式(II)中，R¹⁰至R¹⁷为相同或不同，且各自表示氢、卤素原子、氰基或烷基；R¹⁸及R²²为相同或不同，且各自表示芳香基或杂环基；X¹⁹及X²³为二价烷基；R²⁰及R²⁴为相同或不同，且各自表示氢或甲基；R²¹及R²⁵为相同或不同，且各自表示氢、卤素原子、烷基、环烷基、芳香基、烷基芳香基、烷氧基、环烷基氧基、芳香氧基、酰基、硝基、氰基或氨基；x及y各自表示1至3的整数；w及t各自表示0至3的整数；n及u各自表示0至10的整数。

本发明光硬化性聚硅氧烷组成物，所述具有至少一个烯基的聚硅氧烷高分子还具有至少一个反应基团，且该反应基团选自于由下列所构成的群组的基团：酸酐基及环氧基。

本发明光硬化性聚硅氧烷组成物，所述具有至少一个烯基的聚硅氧烷高分子是由硅烷单体组分经缩合反应而得的聚合物，且该硅烷单体组分包括式(a)所示的硅烷单体，

(R^a)_kSi(OR^b)_4-k  式(a)