[发明专利]一种利用形变调控微晶玻璃的析晶方法有效
申请号: | 201310161257.0 | 申请日: | 2013-05-03 |
公开(公告)号: | CN103274588A | 公开(公告)日: | 2013-09-04 |
发明(设计)人: | 曹建尉;王志 | 申请(专利权)人: | 中国科学院过程工程研究所 |
主分类号: | C03B32/02 | 分类号: | C03B32/02 |
代理公司: | 北京科迪生专利代理有限责任公司 11251 | 代理人: | 成金玉;杨学明 |
地址: | 100190 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 利用 形变 调控 玻璃 方法 | ||
1.一种利用形变调控微晶玻璃的析晶方法,其特征在于:基础玻璃板进入700-725℃核化温区,经过1#形变压延机使玻璃板产生变形,基础玻璃板的厚度减小0<△L≤40%(△L表示形变量),得到厚度为20.0-12.0mm的基础玻璃板;在700-725℃保温3h,然后再升温至840-860℃保温2h的热处理制度,晶化具有不同变形量的基础玻璃板,然后经过600℃/3h退火得到微晶玻璃。
2.一种利用形变调控微晶玻璃的析晶方法,其特征在于,基础玻璃板进入700-725℃核化温区,经过700-725℃保温3h核化热处理之后,得到核化基础玻璃,然后进入840-860℃晶化温区,经过2#形变压延机使玻璃板产生变形,核化基础玻璃板的厚度减小0<△L≤40%(△L表示形变量),得到厚度为20.0-12.0mm的核化玻璃板;然后在840-860℃保温2h的晶化热处理制度,晶化具有不同变形量的核化基础玻璃板,然后经过600℃/3h退火得到微晶玻璃。
3.一种利用形变调控微晶玻璃的析晶方法,其特征在于,基础玻璃板进入700-725℃核化温区,经过1#形变压延机使玻璃板产生变形,基础玻璃板的厚度减小0<△L≤40%(△L表示形变量),得到厚度为20.0-12.0mm的基础玻璃板;在700-725℃保温3h核化具有不同变形量的基础玻璃,得到核化基础玻璃板;进入840-860℃晶化温区,经过2#形变压延机使玻璃板产生变形,核化基础玻璃板的厚度减小0<△L≤40%,得到厚度为20.0-12.0mm的核化玻璃板,在840-860℃保温2h晶化具有不同变形量的核化基础玻璃板,然后在600℃保温3h退火得到微晶玻璃。
4.根据权利要求1-3任一所述的一种利用形变调控微晶玻璃的析晶方法,其特征在于:所述形变促进微晶玻璃晶粒尺寸减小,随着玻璃变形量的增加,微晶玻璃表层与内部晶粒的平均长径比之差先减小后增加,增加玻璃的变形量有助于抑制表层粗大晶体的形成。
5.根据权利要求1-3任一所述的一种利用形变调控微晶玻璃的析晶方法,其特征在于:所述形变能够调整微晶玻璃的晶相种类,形变促进微晶玻璃中晶相种类增多。
6.根据权利要求1-3任一所述的一种利用形变调控微晶玻璃的析晶方法,其特征在于:所述形变能够促进消除或减小表层的柱状晶层,均化微晶玻璃的组织结构。
7.根据权利要求1-3任一所述的一种利用形变调控微晶玻璃的析晶方法,其特征在于:所述形变能够调整微晶玻璃的晶化方式,由二维生长转变成三维生长。
8.根据权利要求1-3任一所述的一种利用形变调控微晶玻璃的析晶方法,其特征在于:所述形变提高微晶玻璃的晶化速率,显著缩短微晶玻璃的晶化时间。
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