[发明专利]太阳能单晶硅片制绒液及其应用方法无效
| 申请号： | 201310161584.6 | 申请日： | 2013-05-03 |
| 公开（公告）号： | CN103205815A | 公开（公告）日： | 2013-07-17 |
| 发明（设计）人： | 单以洪;冯仕猛 | 申请（专利权）人： | 上海交通大学 |
| 主分类号： | C30B33/10 | 分类号： | C30B33/10 |
| 代理公司： | 上海交达专利事务所 31201 | 代理人： | 王毓理;王锡麟 |
| 地址： | 200240 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 太阳能 单晶硅 片制绒液 及其 应用 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种太阳能单晶硅片制绒液，其特征在于，其组分为：NaOH9.6～12.5g/L、乙醇50～100mL/L、乙醇钠0.25～2g/L、维生素1～2g/L以及0.5～2.5g/L的全氟烷基醚羧酸钾盐FC-5、聚氧乙烯醚、聚乙二醇酸酯、多元醇酯或月桂酰二乙醇胺中的至少一种，溶剂为水。
2.根据权利要求1所述的太阳能单晶硅片制绒液的应用方法，其特征在于，将该制绒液用于腐蚀抛光后的硅片，实现单晶硅少子寿命的延长；
所述的腐蚀是指：采用水浴锅加热制绒液使得温度控制在78～80℃，将硅片腐蚀30分钟，腐蚀完毕之后取出烘干。
3.根据权利要求2所述的方法，其特征是，所述的硅片经过超声清洗以及抛光处理。
4.根据权利要求3所述的方法，其特征是，所述的超声清洗是指：用无水乙醇将硅片超声3-5分钟，前后反复两遍，再依次使用温度为85℃和15℃、电导率为18Ω/cm的去离子水对硅片进行清洗。
5.根据权利要求所述的方法，其特征是，所述的抛光是指：对硅片进行将样品放在25%的NaOH的溶液中且在78～80℃的温度下进行抛光。
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