[发明专利]基板处理装置和基板处理方法有效
| 申请号： | 201310162785.8 | 申请日： | 2009-09-24 |
| 公开（公告）号： | CN103258707A | 公开（公告）日： | 2013-08-21 |
| 发明（设计）人： | 宇井明生;林久贵;上夏井健;桧森慎司;山田纪和;大瀬刚;阿部淳 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人： | 龙淳 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 处理 装置 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种基板处理装置，其特征在于，包括：
腔室；
配置在所述腔室内，将基板保持在主面上的第一电极；
与所述第一电极相对地配置在所述腔室内的第二电极；
对所述第一电极施加频率为40MHz以上的RF电压的RF电源；和
脉冲电压施加部，其与所述RF电压叠加地向所述第一电极施加在每1个脉冲内电压与时间的经过对应地下降的脉冲电压，
所述脉冲电压施加部包括：
作为三角波或正弦波而输出周期性变化的电压的电源；和
以规定的间隔向所述第一电极施加从所述电源输出的电压的第一切换部。
2.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于：
1个脉冲内或者1个脉冲组中的保持在所述第一电极上的基板的电压变化为50伏特以下。
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