[发明专利]电子照相感光体、处理盒和图像形成装置有效

专利信息
申请号: 201310164541.3 申请日: 2013-05-07
公开(公告)号: CN103513526B 公开(公告)日: 2019-04-05
发明(设计)人: 岩永刚;平方昌记;胜原秀弥;佐佐木知也;鸟越诚之;今井孝史 申请(专利权)人: 富士施乐株式会社
主分类号: G03G5/147 分类号: G03G5/147;G03G5/06;G03G21/18;G03G15/00
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 庞东成;张培源
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 电子 照相 感光 处理 图像 形成 装置
【说明书】:

本发明提供了电子照相感光体、处理盒和图像形成装置,所述电子照相感光体包括:导电性基体;设置在所述导电性基体上的有机感光层;和设置在所述有机感光层上的无机保护层;其中,所述无机保护层从所述有机感光层侧起依次包含第一层、第二层和第三层,且满足下式(1)的关系:式(1):ρ3≤ρ1<ρ2其中,ρ1表示所述第一层的体积电阻率(Ω·cm),ρ2表示所述第二层的体积电阻率(Ω·cm),ρ3表示所述第三层的体积电阻率(Ω·cm)。

技术领域

本发明涉及电子照相感光体、处理盒和图像形成装置。

背景技术

电子照相术广泛地用于复印机或打印机等装置中。最近研讨了与用于电子照相图像形成装置中的电子照相感光体(下文亦称之为“感光体”)有关的技术,在这些技术中,表面层(保护层)形成在感光体的感光层表面上。

例如,公开了一种用于在有机感光体上形成硬膜来作为表面保护层的技术,其中,所述硬膜由类金刚石碳(DLC)、无定形碳氮化物(CN)、无定形硅氮化物、铝氧化物或镓氧化物形成(例如,参见JP-A-9-101625(专利文献1)、JP-A-2003-27238(专利文献2)、JP-A-58-80647(专利文献3)、JP-A-58-59454(专利文献4)、JP-A-2008-268266(专利文献5)、JP-A-7-181705(专利文献6)、JP-A-7-239565(专利文献7)和JP-A-2011-197571(专利文献8))。

发明内容

本发明的目的是提供一种使图像模糊现象(下文称之为“图像模糊”)和残余电位得到抑制的电子照相感光体。

根据本发明的第一方面,提供了一种电子照相感光体,所述电子照相感光体包括:导电性基体;设置在所述导电性基体上的有机感光层;和设置在所述有机感光层上的无机保护层;其中,所述无机保护层从所述有机感光层侧起依次包含第一层、第二层和第三层,且满足下式(1)的关系:

式(1):ρ3≤ρ1<ρ2

其中,ρ1表示所述第一层的体积电阻率(Ω·cm),ρ2表示所述第二层的体积电阻率(Ω·cm),ρ3表示所述第三层的体积电阻率(Ω·cm)。

根据本发明的第二方面,在第一方面的电子照相感光体中,所述有机感光层可以包含p型电荷输送性有机材料,且所述无机保护层可以包含n型或i型电荷输送性无机材料。

根据本发明的第三方面,在第一方面的电子照相感光体中,所述无机保护层的厚度可以是0.4μm~5.0μm。

根据本发明的第四方面,在第二方面的电子照相感光体中,所述无机保护层的厚度可以是0.4μm~5.0μm。

根据本发明的第五方面,在第一方面的电子照相感光体中,所述第一层的厚度可以是0.05μm~1.0μm。

根据本发明的第六方面,在第二方面的电子照相感光体中,所述第一层的厚度可以是0.05μm~1.0μm。

根据本发明的第七方面,在第一方面的电子照相感光体中,所述无机保护层可以包含金属氧化物。

根据本发明的第八方面,在第二方面的电子照相感光体中,所述无机保护层可以包含金属氧化物。

根据本发明的第九方面,在第一方面的电子照相感光体中,所述无机保护层可以至少包含镓和氧。

根据本发明的第十方面,在第二方面的电子照相感光体中,所述无机保护层可以至少包含镓和氧。

根据本发明的第十一方面,在第九方面的电子照相感光体中,所述无机保护层可以满足下式(2)的关系:

式(2):C3≤C1<C2

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