[发明专利]标准单元库版图设计规则检查验证方法有效

专利信息
申请号: 201310165223.9 申请日: 2013-05-08
公开(公告)号: CN103268375A 公开(公告)日: 2013-08-28
发明(设计)人: 赵劼;陈岚;尹明会 申请(专利权)人: 中国科学院微电子研究所
主分类号: G06F17/50 分类号: G06F17/50
代理公司: 北京汉昊知识产权代理事务所(普通合伙) 11370 代理人: 朱海波
地址: 100029 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 标准 单元 版图 设计 规则 检查 验证 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及集成电路设计领域,特别涉及一种标准单元库版图设计规则检查验证方法。

背景技术

标准单元库是VLSI自动化设计的基础,应用优化的标准单元库能够自动进行逻辑综合和版图布局布线,提高设计效率。

标准单元库整体设计流程如图1所示,包括:

1)单元库定义以及特征确定,根据单元库的用途和面向的工艺确定单元库的各项技术指标;

2)标准单元的电路设计,根据速度和功耗技术指标的要求设计单位驱动能力的反相器的器件尺寸,并以单位驱动反相器单元为基准,按照晶体管串联比例的要求设计其他标准单元的器件尺寸;

3)标准单元的版图设计,根据相关工艺参数及单元库技术指标确定版图设计基本参数,并根据电路尺寸完成单元版图结构;

4)标准单元的验证,根据验证流程采用相应工具对所有标准单元进行物理验证;

5)标准单元的建模,对所有标准单元建立EDA工具自动化设计所需的模型库;

6)标准单元的测试,设计测试电路,验证标准单元的功能和性能是否正确;

7)完成标准单元库,根据以上设计流程,从而完成单元库设计。

根据上述标准单元库的设计流程,在完成标准单元库的电路设计和版图设计完成后,需要对所有单元进行物理设计验证,包括设计规则检查(DRC)、版图和电路图一致性比较(LVS)和版图寄生参数提取(PEX),然后才能对单元进行建模,并最后完成标准单元库的建立。

集成电路版图的DRC验证是集成电路设计中一个重要的环节,尤其是在版图设计完成之后,检查设计好的版图是否符合设计规则的步骤。通常地,设计规则例如最小间距规则、最小包含覆盖重叠尺寸规则等等。

现有技术的标准单元库单元设计DRC验证阶段流程如图2所示。

根据流片厂家提供的版图规则编写DRC规则文件,并将版图文件转换为GDSII格式的文件。运行DRC检查工具,将DRC规则文件和GDSII格式的版图文件作为输入文件,可以得到输出结果文件和检查报告。根据结果文件定位版图错误位置并完成修改,最终确保版图设计全部符合设计规则要求。

发明内容

传统标准单元库在完成单元版图设计后,需要逐个单元进行DRC验证,大量消耗开发精力。现有技术中批量DRC验证是基于完成所有单元库版图的基础上新建一个图层,然后在所述图层中手动添加所有单元版图,再使用工具进行DRC验证。手动添加单元版图是一个复杂的过程,由于一般的标准单元库至少包含100个以上的单元,采用新建图层的方法进行批量DRC验证费时费力。

本发明提供一种标准单元库版图设计规则检查验证方法,其特征在于,运行脚本对标准单元库所有单元版图进行批量设计规则检查验证,所述方法包括:

a)产生标准单元库路径信息;

b)产生标准单元库所有单元名称列表;

c)产生设计规则文件;

d)运行设计规则检查命令;

e)产生标准单元库所有单元结果文件;

f)产生标准单元库设计规则检查报告文件。

与现有技术相比,采用本发明提供的技术方案具有以下优点:本发明可以在标准单元库设计验证阶段,通过编写脚本进行批量处理的方式对标准单元库中的所有单元进行物理验证,能够减少设计开发流程验证阶段所需的大量时间,提高设计效率。

附图说明

通过阅读参照以下附图所作的对非限制性实施例所作的详细描述,本发明的其它特征、目的和优点将会变得更明显:

图1为标准单元库整体设计流程;

图2为现有技术的标准单元库单元设计DRC验证流程;

图3为根据本发明的标准单元库批量DRC验证流程。

具体实施方式

下面详细描述本发明的实施例,所述实施例的示例在附图中示出。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的,仅用于解释本发明,而不能解释为对本发明的限制。

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