[发明专利]一种液晶显示器阵列基板的制造方法有效

专利信息
申请号: 201310168698.3 申请日: 2013-05-09
公开(公告)号: CN104122713B 公开(公告)日: 2017-08-29
发明(设计)人: 王晓倩;王明宗;柳智忠;郑亦秀 申请(专利权)人: 深超光电(深圳)有限公司
主分类号: G02F1/1343 分类号: G02F1/1343;G02F1/1362;G02F1/1368;G02F1/1333
代理公司: 深圳市鼎言知识产权代理有限公司44311 代理人: 徐丽昕
地址: 518109 广东省深圳市*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 液晶显示器 阵列 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种液晶显示器阵列基板的制造方法,该方法包括:

在基板表面上形成多个栅极、多条栅极线和多条公共电极线;

形成一层栅极绝缘层覆盖该基板、该栅极、该栅极线和该公共电极线;

在该栅极绝缘层上方形成多个像素电极;

形成一层钝化层覆盖该栅极绝缘层和该多个像素电极;

形成一层透明导电层覆盖该钝化层,并图案化该透明导电层以形成一开孔,该开孔至少与部分该公共电极线重叠且该开孔与该像素电极相互隔离,该透明导电层的材质与该钝化层、该栅极绝缘层的材质不同,使得该透明导电层的刻蚀溶液与该钝化层、该栅极绝缘层的刻蚀溶液不同;

以该图案化的透明导电层作为掩模,图案化该钝化层和该绝缘层,以在开孔下方形成一通孔,该通孔贯穿该钝化层和该栅极绝缘层,并暴露出部分公共电极线,所述图案化该钝化层和该绝缘层是采用蚀刻溶液对该钝化层和该绝缘层进行蚀刻,该蚀刻溶液对该透明导电层无蚀刻作用;

移除该透明导电层;

在该钝化层上方形成一公共电极,覆盖该通孔的内表面并与该公共电极线连接。

2.如权利要求1所述的液晶显示器阵列基板的制造方法,其特征在于:该开孔与该通孔的大小大致相等。

3.如权利要求1所述的液晶显示器阵列基板的制造方法,其特征在于:该透明导电层的材质为氧化铟锡或者氧化铟锌。

4.如权利要求1所述的液晶显示器阵列基板的制造方法,其特征在于:该像素电极和该公共电极中的至少一种具有多个平行排列的狭缝。

5.如权利要求1所述的液晶显示器阵列基板的制造方法,其特征在于:该制造方法还包括在该栅极上方形成一层通道层。

6.如权利要求5所述的液晶显示器阵列基板的制造方法,其特征在于:该制造方法还包括在该通道层的两侧形成彼此分离的源极和漏极,该漏极部分地覆盖该像素电极,同时形成多条资料线。

7.如权利要求6所述的液晶显示器阵列基板的制造方法,其特征在于:该栅极、该源极、该漏极和该通道层构成了薄膜晶体管。

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