[发明专利]一种电容屏用双面镀膜玻璃的加工方法及双面镀膜玻璃

权利要求书

1.一种电容屏用双面镀膜玻璃，包括有玻璃基板（1），所述玻璃基板（1）的两个表面分别为锡面（2）和空气面（3），其特征在于：在玻璃基板的所述锡面（2）上设置有透明钝化层（4），并在所述透明钝化层（4）上具有透明导电膜Ⅰ（5）；在玻璃基板的所述空气面（3）上设置有透明消影层（6），并在所述透明消影层（6）上具有透明导电膜Ⅱ（7）。

2.按照权利要求1所述的一种电容屏用双面镀膜导电玻璃，其特征在于：所述透明钝化层（4）为透明的二氧化硅层或透明的氮氧化硅层。

3.按照权利要求1所述的一种电容屏用双面镀膜导电玻璃，其特征在于：所述透明消影层（6）为透明的二氧化硅层和透明的五氧化二铌层构成；其中，所述透明的二氧化硅层位于玻璃基板的所述空气面（3）上，在所述透明的五氧化二铌层上设置所述的透明导电膜Ⅱ（7）。

4.按照权利要求1所述的一种电容屏用双面镀膜导电玻璃，其特征在于：锡面（2）上的所述透明导电膜Ⅰ（5）与空气面（3）上的所述透明导电膜Ⅱ（7）的方阻相同，均为：30?，或为50?、60?、70?、80?、100?。

5.按照权利要求1所述的一种电容屏用双面镀膜导电玻璃，其特征在于：锡面（2）上的所述透明导电膜Ⅰ（5）与空气面（3）上的透明导电膜Ⅱ（7）的方阻不相同，所述透明导电膜Ⅰ（5）方阻／所述透明导电膜Ⅱ（7）方阻为：50?／70?，或为：60?／100? 、80?／100?、100?／250?、250?／400?。

6.按照权利要求1或4或5所述的一种电容屏用双面镀膜导电玻璃，其特征在于：所述透明导电膜Ⅰ（5）、透明导电膜Ⅱ（7）均为氧化铟锡导电膜。

7.一种电容屏用双面镀膜导电玻璃的加工方法，其特征在于：其步骤如下：

1）、对原玻璃基板进行处理，

a.对原玻璃基板进行切割，先X切割,再Y切割, 然后再掰片处理；

b.对切割后的玻璃基板(1)进行磨边和倒角，先X磨边, 再倒角，旋转90°再对Y磨边及倒角；

c.刷洗吹干；

d.对磨边和倒角后的玻璃基板(1)进行抛光；

e.再刷洗吹干；

2）、对玻璃基板(1)溅射透明钝化层和透明消影层；

a. 对抛光刷洗吹干后玻璃基板(1)进行加热；采用的加热温度为150-280摄氏度；

b.利用磁控溅射真空镀膜设备对加热后的玻璃基板(1)两面进行溅射；包括：锡面(2)上溅射透明钝化层(4)，空气面(3)上溅射透明消影层(6)；透明钝化层(4)为透明的二氧化硅层或或透明的氮氧化硅层，透明消影层（6）为透明的二氧化硅层和透明的五氧化二铌层构成；其中，所述透明的二氧化硅层位于玻璃基板的所述空气面（3）上，在所述透明的五氧化二铌层上设置所述的透明导电膜Ⅱ（7）；

3）、对玻璃基板(1)两面溅射的透明钝化层（4）和透明消影层（6），进行氧化铟锡导电膜溅射； 

a.对溅射透明消影层和透明钝化层的玻璃基板(1)进行加热；加热温度采用280-380摄氏度； 

b. 利用磁控溅射真空镀膜设备，在加热后的玻璃基板(1)透明消影层(6)和透明钝化层(4)上，进行氧化铟锡ITO导电膜溅射；即分别在锡面上的透明钝化层(4)上溅射镀上氧化铟锡导电膜，在空气面上的透明消影层(6)上溅射镀上氧化铟锡导电膜；

c.两面溅射氧化铟锡导电膜的玻璃基板，经缓冲室做退火处理：先降温至200摄氏度，再加温至300摄氏度稳定，完成对玻璃基板(1)的双面镀膜。