[发明专利]一种制备低反射率金属薄膜的方法

权利要求书

1.一种制备低反射率金属薄膜的方法，其特征在于该方法的步骤为：

1）按要求将石英玻璃基片加工成型，然后对石英玻璃基片进行清洗，最后将石英玻璃基片装入真空镀膜机的真空室中；

2）在石英玻璃基片上用磁控溅射法制备低反射率薄膜，步骤为：

（a）对真空镀膜机的真空室抽真空，并将石英玻璃基片加热至100℃-130℃；

（b）当真空镀膜机的真空室的真空度达到2×10^-3Pa以下时开始进行溅射蒸镀工作，步骤为：

（ⅰ）将工作气体和反应气体充入真空镀膜机的真空室中，使真空镀膜机的真空室的压力为6×10^-1～8×10^-1Pa；所述的工作气体为氩气，反应气体为氧气或氮气，工作气体与反应气体的体积比为5-6:1；

（ⅱ）对金属靶进行蒸预溅射；

（ⅲ）溅射金属薄膜，将溅射功率控制在300～400W的范围内，溅射速率控制在10～15nm/min的范围内；

（ⅳ）金属薄膜厚度达到要求时结束溅射，完成低反射率金属薄膜的制备。

2.根据权利要求1所述的一种制备低反射率金属薄膜的方法，其特征在于：步骤1）中的清洗方法为：用碳酸钙擦拭基片，用水冲洗干净置入玻璃洗液中浸泡2小时以上，取出用去离子水冲洗干净，用无水乙醇脱水，用质量含量为50％无水乙醇加质量含量为50％乙醚洗液擦拭干净。

3.根据权利要求1所述的一种制备低反射率金属薄膜的方法，其特征在于：步骤（ⅲ）在溅射过程中对石英玻璃基片进行匀速旋转。