[发明专利]一种用于大面积纳米压印的自适应压印头

权利要求书

1.一种用于大面积纳米压印的自适应压印头，其特征是，包括：

一维位移平台；一维位移平台与连接支架立板相连接，实现压印头沿Z向移动，对模具施加压印力以及模具和衬底之间间隙的调整；

连接支架；所述连接支架包括立板、底板，所述立板和底板垂直连接，连接支架将一维位移平台、连接板、弹簧、导柱组成一个六自由度被动适应调整系统；

连接板；连接板一面通过弹簧和导柱与连接支架的底板连接，另一面用以固定模具或者模具装置；

弹簧；弹簧固定在连接支架底板和连接板之间，弹簧的刚度根据压印模具重量、间隙调整量和施加的压印力大小来确定；

导柱；导柱穿过连接板、弹簧，并与连接支架底板固定，所述导柱一方面用于限制弹簧的横向变形，另一方面与连接支架底板和连接板共同承载模具和连接板自身的重力，消除这些重力对压印力的影响。

2.如权利要求1所述的用于大面积纳米压印的自适应压印头，其特征是，所述连接板上还设有筋板，用于提高连接支架的刚度。

3.如权利要求1所述的用于大面积纳米压印的自适应压印头，其特征是，所述导柱穿过连接支架底板，并通过固定螺母固定。

4.如权利要求1所述的用于大面积纳米压印的自适应压印头，其特征是，所述弹簧置于连接支架底板和连接板的四个角的位置，数量为4个。

5.如权利要求1所述的用于大面积纳米压印的自适应压印头，其特征是，所述连接支架底板的下表面和连接板的上表面设置有凹槽，用于放置和定位弹簧。

6.如权利要求1所述的用于大面积纳米压印的自适应压印头，其特征是，所述连接板上还设有通孔，用以固定模具或者模具装置。