[发明专利]一种超高纯硫酸制造方法

说明书

技术领域

本发明设计一种硫酸的制造方法，具体涉及一种超高纯硫酸的制造方法。

背景技术

湿电子化学品主要应用于集成电路和分立器件、晶体硅太阳能和平板显示等领域的生产制造过程之中，目前现有的湿电子化学品尤其是硫酸的精度不高，纯度无法达到PPT等级，不能适合极大规模集成电路的生产工艺流程。

发明内容

针对以上不足，本发明提供一种极大规模集成电路用的超高纯硫酸的制备方法。本发明的技术方案如下：

一种超高纯硫酸制造方法，所述超高纯硫酸的制作步骤如下：

(1)将工业硫酸经过氧化处理，并进行沉淀分离，澄清硫酸；

(2)将步骤(1)澄清的硫酸反倒入连续精馏处理系统，做电加热连续精馏处理；

(3)将步骤(2)精馏过的硫酸反倒入超净过滤纯净系统做超净过滤、超净分装。

一种超高纯硫酸制造方法，步骤(2)所述加热精馏系统的温度为330℃±10℃。

一种超高纯硫酸制造方法的技术方案中，连续精馏设备为石英为材质。采用连续蒸馏技术，旨在取出硫酸中的金属杂质。

一种超高纯硫酸制造方法的技术方案中，采用超净过滤系统和超净罐装系统，旨在排除二次污染。

与现有技术相比，本发明提供的一种超高纯硫酸的制备方法，其等级达到PPT等级，生产出含量95-97％、金属杂质控制在1PPb以内，完全满足极大规模集成电路的生产制造。

具体实施方式

下面通过实施例描述本发明，但不限于所举实施例。

本发明提供一种极大规模集成电路用的超高纯硫酸的制备方法。本发明的技术方案如下：

一种超高纯硫酸制造方法，其超高纯硫酸的制作步骤如下：

(1)将工业硫酸经过氧化处理，并进行沉淀分离，澄清硫酸；

(2)将步骤(1)澄清的硫酸反倒入连续精馏处理系统，做电加热连续精馏处理；

(3)将步骤(2)精馏过的硫酸反倒入超净过滤纯净系统做超净过滤、超净分装。

一种超高纯硫酸制造方法，其步骤(2)中所述加热精馏系统的温度为330℃±10℃。

一种超高纯硫酸制造方法的技术方案中，连续精馏设备为石英为材质。采用连续蒸馏技术，旨在取出硫酸中的金属杂质。

一种超高纯硫酸制造方法的技术方案中，采用超净过滤系统和超净罐装系统，旨在排除二次污染。

本发明提供的一种超高纯硫酸的制备方法，其等级达到PPT等级，生产出含量95-97％、金属杂质控制在1PPb以内，完全满足极大规模集成电路的生产制造。