[发明专利]一种光阻涂布机

说明书

技术领域

本发明涉及光阻涂布技术领域，尤其涉及一种应用于阵列/彩膜黄光制程工序（Array/CF Photo Process）的光阻涂布过程中的光阻涂布机。 

背景技术

在阵列/彩膜黄光制程工序（Array/CF Photo Process）的光阻涂布过程中，因最新主流设备乃是采用光阻涂布机（Slit coater）以纵向移动涂布光阻。因光阻涂布喷嘴（nozzle）与玻璃基板（glass）的间隙（gap）约为200μm，在涂布过程中，若在传送的过程中有在玻璃基板上掉落颗粒物（particle），则光阻涂布喷嘴或是干涉条（bar）与颗粒物接触后，即会造成喷嘴损伤或是玻璃刮伤、破片,或造成各种产品的品味问题（如Mura现象）等异常产生。 

目前光阻涂布针对玻璃基板上落掉异物的对应方法主要有以下两种： 

（1）以异物检知传感器（PHOTO sensor）先行侦测玻璃基板表面有无异常或颗粒物，若有异常会立即发出警报并停止涂布动作。但因异物检知传感器可侦测的异物大小有其极限，当异物小于100μm时就容易发生误侦测； 

如图1a所示，中国专利CN1695822A公开了一种涂布装置，除尘装置50包括一超声波除尘器51，该超声波除尘器51置于刮刀式喷嘴41前方，并横跨在平台30上方，该超声波除尘器51利用超声波原理及风刀效应去除微粒，其上设有一控制开关的控制装置511和一驱动其进行往复运动的驱动装置，该专利中的超声波除尘器51利用超声波检知微粒或颗粒物的存在； 

如图1b所示，美国专利US2012/0100280A公开了一种光阻涂布装置，其所涉及的光阻涂布装置具有一个微粒探测器240，如果探测器240探测到基板102上有微粒，狭缝涂布机220立即强行停止喷嘴236的运动，使其进入等待状态。 

（2）如图2所示，光阻喷嘴0前装设干涉条，异物检知传感器无法正常侦测颗粒物1时，透过干涉条2将颗粒物1卡下，以避免/或减少造成光阻喷嘴0损伤的机率，缺点是若有颗粒物1落掉，而异物检测传感器无法及时检出且干涉条2无法完全卡下颗粒物1，而后造成喷嘴0损伤，之后即会造成显示器横向不均匀痕迹线（Suji Mura）等现象产生，将会有大量异常产品产生而需重新制作玻璃基板3或者不得不将其直接报废，对生产而言构成严重的浪费。 

发明内容

针对上述存在的问题，本发明的目的是提供一种光阻涂布机，用以在涂布光阻过程中可以同时间去除掉颗粒物，以将上述造成喷嘴损伤或是产品有显示器亮度不均匀,造成各种痕迹的现象等异常 发生率降至最低。 

本发明的目的是通过下述技术方案实现的： 

一种光阻涂布机，包括： 

一光刻胶喷嘴，用于在一玻璃基板上进行光阻涂布；一干涉条设置于所述光刻胶喷嘴的前方，其中： 

一喷流回吸装置设置于所述干涉条的前方，所述喷流回吸装置包括空气驱动装置和喷流回吸主体； 

所述喷流回吸主体的上端与所述干涉条枢接； 

所述喷流回吸主体下端开口； 

所述喷流回吸主体包含喷流腔体和吸入腔体，所述喷流腔体和所述吸入腔体的底部均与空气连通，在所述空气驱动装置的驱动下，从所述喷流腔体喷流出的气体，所述吸入腔体吸入气体； 

所述喷流回吸主体的下端不与所述玻璃基板相接触。 

上述光阻涂布机，其中，所述空气驱动装置包括相互连接的电机和叶轮，所述电机与电源连接，所述电机通电后带动所述叶轮进行旋转，使得空气从所述喷流腔体中向下喷出后被吸入所述吸入腔体内。 

上述光阻涂布机，其中，所述喷流回吸主体与所述干涉条之间的夹角大于5°且小于45°。 

上述光阻涂布机，其特征在于，所述喷流回吸主体靠近所述干涉条的一侧为所述喷流腔体，所述喷流回吸主体背向所述干涉条的一侧为所述吸入腔体。 

上述光阻涂布机，其中，所述喷流腔体的下端端口的前方位置设有遮挡面，所述遮挡面不与所述玻璃基板相接触。 

上述光阻涂布机，其中，所述干涉条垂直于所述玻璃基板并与光刻胶喷嘴平行。 

与已有技术相比，本发明的有益效果在于： 

通过光阻涂布机中的喷流回吸装置的强力吸流，将掉落在玻璃基板上的颗粒物，尤其是极小的颗粒物吹除，同时通过另一吸流口将颗粒物吸入，以生成除了传感器和干涉条以外的第三道关卡，基本实现完全去除颗粒物，避免损伤喷嘴，提高成品率。 

附图说明