[发明专利]有机发光显示系统及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201310181331.5 申请日: 2013-05-16
公开(公告)号: CN103824871B 公开(公告)日: 2019-05-07
发明(设计)人: 李政烈;赵尹衡;韩旭 申请(专利权)人: 三星显示有限公司
主分类号: H01L27/32 分类号: H01L27/32;H01L51/52;H01L51/56
代理公司: 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 代理人: 刘灿强;王占杰
地址: 韩国京畿*** 国省代码: 韩国;KR
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 有机 发光 显示 系统 及其 制造 方法
【说明书】:

公开了一种有机发光显示系统及其制造方法。在一个方面,所述有机发光显示系统包括:基板;显示单元,在基板上限定有源区并且包括多个薄膜晶体管(TFT);包封层,密封显示单元并且具有至少顺序地堆叠有第一无机膜、第一有机膜和第二无机膜的堆叠结构。TFT包括有源层、栅电极、源电极、漏电极以及设置在栅电极与源电极之间和栅电极与漏电极之间的层间绝缘膜,其中,第二无机膜在基本在有源区外部的点处直接接触层间绝缘膜。因此,在各种实施例中,因为防止了薄膜包封层的无机层破裂,所以可以减少或者防止了外部湿气或氧渗入到显示单元的有源区中。

本申请要求于2012年11月19日提交到韩国知识产权局的第10-2012-0131115号韩国专利申请的权益,上述申请的公开通过引用全部包含于此。

技术领域

所公开的技术涉及一种有机发光显示系统及其制造方法,更具体地讲,涉及一种增强围绕显示系统的发光部分的薄膜包封层的密封力的有机发光显示系统及其制造方法。

背景技术

有机发光显示系统包括有机发光装置或二极管(OLED),该OLED包括空穴注入电极、电子注入电极以及形成在空穴注入电极和电子注入电极之间的有机发光层。这样的显示系统是当激子从激发态下降到基态时发射光的自发射系统,其中,当从空穴注入电极注入的空穴和从电子注入电极注入的电子在有机发光层中彼此结合时产生所述激子。

因为OLED显示系统不需要单独的光源,所以OLED显示系统可以在低电压下工作并且具有轻薄的设计。这种新一代显示系统具有诸如宽视角、高对比度和快速响应的附加优点。然而,因为有机系统材料易受外部湿气或氧的影响而劣化,所以发光区域必须被有效地密封。

为了使OLED显示系统重量轻和/或柔软,近来已经试图开发一种包括通过铺设无机膜或者铺设有机膜和无机膜而形成的多个层的堆叠件的薄膜包封构件。

因为无机膜通常将具有较大的厚度,所以与有机膜相比,无机膜可以更加有效地防止外部湿气或氧的渗入。然而,由于无机膜的厚度增加,所以应力也增加,从而使得无机膜剥落。一旦包封构件被损坏或者移除,显示系统的寿命就被缩短。

发明内容

本发明提供了一种可以改善薄膜包封层的密封力的有机发光显示系统和一种制造该有机发光显示系统的方法。

根据本发明的一方面,提供了一种有机发光显示系统,所述有机发光显示系统包括:基板;显示单元,在基板上限定有源区并且包括多个薄膜晶体管(TFT);包封层,密封显示单元并且具有其内至少顺序地堆叠有第一无机膜、第一有机膜和第二无机膜的堆叠结构,其中,TFT包括有源层、栅电极、源电极、漏电极以及设置在栅电极与源电极之间与栅电极与漏电极之间的层间绝缘膜,其中,第二无机膜在基本在有源区外部的点处直接接触层间绝缘膜。

第二无机膜和层间绝缘膜可以由相同的材料形成。

所述材料是氮化硅(SiNx)。

显示单元还可以包括有机发光装置(OLED),其中,OLED包括:像素电极,连接到源电极和漏电极中的任何一个;中间层,形成在像素电极上并且包括有机发光层;对电极,形成在中间层上,其中,第一无机膜形成在对电极上。

有机发光显示系统还可以包括形成在对电极和第一无机膜之间的保护层。

保护层可以包括覆盖对电极的覆盖层和形成在覆盖层上的屏蔽层,其中,屏蔽层由具有针孔结构的氟化锂(LiF)形成。

第一无机膜可以由氧化铝(AlOx)形成。

包封层还可以包括形成在第二无机膜上的第二有机膜和形成在第二有机膜上的第三无机膜,其中,第三无机膜在基本在有源区外部的点处接触第二无机膜的顶表面。

第二无机膜和第三无机膜可以由相同的材料形成。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三星显示有限公司,未经三星显示有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201310181331.5/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top