[发明专利]一种具有导电性能的复合陶瓷层的制备方法有效
申请号: | 201310181678.X | 申请日: | 2013-05-16 |
公开(公告)号: | CN103233227A | 公开(公告)日: | 2013-08-07 |
发明(设计)人: | 徐晋勇;石小超;蒋占四;张应红;高鹏;唐亮;高成;周逸群;刘栋 | 申请(专利权)人: | 桂林电子科技大学 |
主分类号: | C23C28/04 | 分类号: | C23C28/04 |
代理公司: | 桂林市华杰专利商标事务所有限责任公司 45112 | 代理人: | 杨雪梅 |
地址: | 541004 广西*** | 国省代码: | 广西;45 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 具有 导电 性能 复合 陶瓷 制备 方法 | ||
1.一种具有导电性能的复合陶瓷层的制备方法,其特征是:包括以下步骤:
(1)将基材经冷加工处理,在其上切取试样;
(2)对切取的试样表面进行前处理:砂纸打磨→自来水清洗→丙酮清洗→去离子水清洗→吹干;
(3)放置到微弧氧化装置中进行微弧氧化处理,制备一层陶瓷层;
(4)将微弧氧化后的试样进行超声波清洗;
(5)在磁控溅射装置中沉积氮化钛涂层,实现复合陶瓷层具有导电性能;
(6)清洗并干燥,获得具有导电性能的复合陶瓷层。
2.根据权利要求1所述的制备方法,其特征是:步骤(3)所述的微弧氧化装置为恒定电流供电,采用恒流的方法处理15 ~100min,膜的厚度为30 ~100μm;电解液溶度及电参数范围为:偏铝酸钠10 ~ 20g/L,氢氧化钠0.5 ~ 4g/L,六偏磷酸钠5 ~18g/L,电流密度为8 ~25A/dm2,频率200 ~ 700HZ,正负脉冲数了5∶2,占空比为5 ~ 40%。
3.根据权利要求1所述的制备方法,其特征是:步骤(5)所述的磁控溅射镀的工艺参数为:真空度为10-5 ~ 10-4Pa,通入氩气至1 ~ 35 Pa,用-500 ~ -1500V的偏压清洗陶瓷层10 ~ 50 min;沉积温度:室温 ~ 400℃,沉积气压为0.5 ~ 10Pa,沉积偏压为-100 ~ -300V,沉积时间为20 ~ 90min。
4.根据权利要求1所述的制备方法,其特征是:所述基材为AL、Mg、Ti轻金属材料中任意一种。
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