[发明专利]牙科半导体激光治疗仪有效
申请号: | 201310182926.2 | 申请日: | 2013-05-16 |
公开(公告)号: | CN103239293A | 公开(公告)日: | 2013-08-14 |
发明(设计)人: | 丁卫军 | 申请(专利权)人: | 顶信光电(上海)有限公司 |
主分类号: | A61B18/22 | 分类号: | A61B18/22 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 200033 上海市*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 牙科 半导体 激光治疗 | ||
技术领域
本发明涉及一种治疗仪,特别涉及一种牙科半导体激光治疗仪。
背景技术
牙科半导体激光治疗仪是利用激光对口腔内牙龈、牙齿及相关病变组织等组织进行切割、破坏组织细胞的方式来达到治疗口腔软组织病变或整形的目的,结合本治疗头可以增加对口腔消炎、结合光动力药剂可以对牙齿增白。牙科激光治疗仪发射的激光可以看成是一把牙科手术刀,发射的激光有两种模式:连续输出模式和重复脉冲输出模式。连续输出模式是指激光输出一种连续的光束,主要应用于切割快速且强效止血但会引起组织的轻度坏死、消炎及美白;重复脉冲输出模式是一种激光在短时间间隔里输出能量峰值的技术。在重复脉冲输出模式下,按占空比例来讲,平均输出能量是低于能量峰值的。最常见的脉冲间隔是1ms到10ms不等。一方面,重复脉冲输出模式虽没有连续输出模式下切割快,但却避免了正常组织的坏死的造成。另一方面,重复脉冲输出模式下的激光能量相对没有连续输出的平均激光能量高,但由于它能更好地控制治疗,主要应用于浅表组织细胞的破坏、小面积区域的治疗。
然而,现有市场上的许多牙科治疗设备存在诸多缺陷,如:牙科治疗设备大多采用大型的电源发生器,这种电源发生器不仅占用空间,且转换功耗大,在电气上不安全,不方便携带;另外现有的牙科治疗设备在激光触发的控制上尚不能实现解放双手,口腔及牙齿的诊治需要良好的操作精准度,若操作不便直接影响诊疗结果;再有,现有的牙科治疗设备中的制冷系统大多采用水流循环系统,这种水流循环系统所需管道长,水箱的水量要相对多,水流传输和热量交换所消耗的功率较大,且整个制冷系统势必得占用大量的空间。
发明内容
本发明的目的在于提供一种牙科半导体激光治疗仪,用于解决现有技术中携带不便、制冷欠佳、操控不便等问题。
为解决上述问题及其他问题,本发明提供一种牙科半导体激光治疗仪,包括:微型电源,用于对外接的交流电进行整流、滤波、纹波处理后输出符合功率阈值要求的直流电流;激光发生器,用以在接收到触发信号时依据所述微型电源输出的直流电流产生波长为808nm或980nm且连续激光束或频率为1~25KHz可调的脉冲激光束;制冷系统,对应所述激光发生器设置,包括用于对所述激光发射器散热的半导体制冷单元和风冷式散热模组;触控显示单元,用于显示相关的系统参数信息、治疗方案及控制指令的界面,并在检测到相应的设置和/或操控的操作之后发出执行和/或更新请求;中央控制模块,包括:用于依据所述更新请求创建或更新治疗方案的方案生成单元;用以建立近距离无线通信的通信单元;用于依据所述执行请求输出波长为808nm或980nm且连续激光束或频率为1~25KHz可调的脉冲激光束的执行单元;以及功率监控单元;所述功率监控单元实时量测所述微型电源输出的直流电流,并与预设的输出功率阈值相比较,在不符合功率阈值要求时输出功率预警信号;所述治疗方案中包含方案参数;存储单元,用于存储系统参数信息和治疗方案;脚踏开关,与所述通信单元建立近距离无线通信,用于藉由所述中央控制模块发出触发信号给所述激光发生器;激光笔,通过光纤与所述激光发生器相连,用于将所述激光发生器输出的激光束照射至待操作区域。
可选地,所述微型电源接收外接的交流输入,并提取所述交流输入中的有用信号进行单向整流,对整流后的信号进行滤波和纹波处理,将滤波和纹波处理后的信号传输至所述中央控制模块比较,并依据采样电流计算出实际输出功率将其与预设的输出功率阈值相比较,在不符合功率阈值要求时输出功率预警信号。
可选地,所述微型电源还包括电池以及与所述电池连接用于检测所述电池的当前电量的电源检测单元;所述电源检测单元在检测到所述电池的当前电量小于预设值的情形下通过所述中央控制模块的向所述触控显示单元发出告警信息。
可选地,所述风冷式散热模组包括:嵌入于所述激光发生器的底座中的金属导热管,所述金属导热管还与外部导热件相通,形成热量由所述激光发生器依序传向所述底座、所述金属导热管、所述外部导热件的正向的送热路径;设置在所述底座一侧的散热风扇,用于增强所述激光发生器的底座、所述金属导热管以及所述外部导热件之间的对流,加速热量的传送。
可选地,所述半导体制冷单元根据所述激光发生器的输出反馈而自适应地调整输出功率,所述激光发生器的输出大小由所述中央控制模块根据所述存储单元中的设置设备参数实现连续可调式控制;当所述激光发生器所反馈的输出变大时,则由所述中央控制模块控制所述半导体制冷单元增大输出功率;当所述激光发生器所反馈的输出值变小时,则由所述中央控制模块控制所述半导体制冷单元减小输出功率。
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