[发明专利]抗反射基板及包含其的显示设备有效
| 申请号： | 201310184351.8 | 申请日： | 2013-05-17 |
| 公开（公告）号： | CN104166173A | 公开（公告）日： | 2014-11-26 |
| 发明（设计）人： | 郑惟元 | 申请（专利权）人： | 群创光电股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B1/11 | 分类号： | G02B1/11;G09F9/30 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 曹玲柱 |
| 地址： | 中国台湾新竹科学工*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 反射 包含 显示 设备 | ||
1.一种抗反射基板，其特征在于，包括：
一基底；
多个第一凸部，排列于该基底上；以及
多个第二凸部，设置于该基底上；
其中，该些第一凸部的排列间距为100nm至300nm，该些第二凸部的间距为10μm至50μm，且该些第二凸部的凸起高度高于或等于该些第一凸部的凸起高度，以及该些第二凸部于该基底上的分布比例占该基底的面积的1％至10％。
2.根据权利要求1所述的抗反射基板，其中，每一该些第二凸部的宽度为1μm至5μm。
3.根据权利要求1所述的抗反射基板，其中，该些第一凸部的凸起高度为180nm至220nm。
4.根据权利要求1所述的抗反射基板，其中，该些第二凸部与该些第一凸部为一体成形。
5.根据权利要求4所述的抗反射基板，其中，该些第二凸部的凸起高度为500nm至5,000nm。
6.根据权利要求4所述的抗反射基板，其中，该些第二凸部的凸起高度为该些第一凸部的凸起高度的2.5至25倍。
7.根据权利要求1所述的抗反射基板，其中，该些第二凸部形成于该些第一凸部上。
8.根据权利要求7所述的抗反射基板，其中，该些第二凸部的凸起高度为200nm至5,000nm。
9.根据权利要求7所述的抗反射基板，其中，该些第二凸部的凸起高度为该些第一凸部的凸起高度的1至25倍。
10.一种显示设备，其特征在于，包括：
一显示面板；以及
一根据权利要求第1项至第9项中任一项所述的抗反射基板，设置于该显示面板上。
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