[发明专利]吸附台有效
申请号: | 201310184743.4 | 申请日: | 2013-05-17 |
公开(公告)号: | CN103456667B | 公开(公告)日: | 2017-04-26 |
发明(设计)人: | 高木一也;白户顺;山谷柳逸 | 申请(专利权)人: | 日本麦可罗尼克斯股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/683 | 分类号: | H01L21/683 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙)11277 | 代理人: | 刘新宇,张会华 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 吸附 | ||
1.一种吸附台,其用于保持显示面板,其中,
该吸附台包括:
能够移动的支承台,其具有开设有负压开口的吸附面;
多个升降条,其以横穿上述吸附面的方式配置;
多个凹部,该多个凹部彼此并行地设置在上述吸附面上,用于将上述升降条收纳在上述支承台内而使上述升降条不会自上述吸附面突出;
支承机构,其在上述支承台的侧部中的、上述多个凹部敞开的部位以能够使上述升降条升降的方式支承上述升降条;以及
升降装置,其为了使上述升降条在自上述凹部突出的上升位置与收纳在上述凹部中的下降位置之间升降而与上述支承机构相关联地设置于上述支承台,
上述支承机构包括:
一对梁构件,该一对梁构件在上述支承台的两侧沿着该支承台配置,并以能够在上下方向上移动的方式支承于上述支承台,且能够通过上述升降装置的动作而在上下方向上移动,
多个支柱,其支承于各上述梁构件,
高度调整机构,其设于各上述支柱与所对应的上述梁构件之间,该高度调整机构通过调整该支柱的高度位置来调整上述升降条的倾斜及高度位置,以及
冲击缓和机构,其将各上述支柱的上端部与所对应的上述升降条的端部弹性地结合,对作用于上述升降条的冲击进行缓和。
2.根据权利要求1所述的吸附台,其中,
上述冲击缓和机构包括:
凹部,其形成于上述支柱的顶部,以能够沿着上下方向引导上述升降条的方式接收上述升降条;以及
压缩螺旋弹簧,其配置在上述凹部的底面与上述升降条之间。
3.根据权利要求2所述的吸附台,其中,
在上述升降条上设有调整螺钉,该调整螺钉用于与上述压缩螺旋弹簧的端部相抵接以调整该螺旋弹簧的压缩量。
4.根据权利要求1所述的吸附台,其中,上述高度调整机构包括:锚固构件,其固定于上述支柱的下部,以在上下方向上具有游隙的方式形成有朝向上述梁构件地贯穿该锚固构件的槽,
紧固件,其贯穿上述槽而以能够解除结合的方式将该支承台与上述梁构件结合,以及
定位螺钉,其用于在松开了上述紧固件的状态下在上述槽的上下方向上的长度尺寸的范围内调整上述支柱的高度位置。
5.根据权利要求4所述的吸附台,其中,
上述高度调整机构还包括:
螺纹座,其固定于上述梁构件,具有在上下方向上贯穿的螺纹孔,
上述定位螺钉以其上端能够自上述螺纹孔突出的方式与该螺纹孔螺纹结合,且与上述锚固构件的底面相抵接。
6.根据权利要求1所述的吸附台,其中,
在各升降条上形成有肩部,该肩部用于与该升降条上的上述显示面板的缘相抵接以防止该显示面板脱落。
7.根据权利要求6所述的吸附台,其中,
在上述升降条的上表面的靠近上述肩部的部位形成有退让槽,该退让槽用于防止因上述升降条上的上述显示面板的倾斜而导致该显示面板的缘与上述上表面之间发生干涉。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日本麦可罗尼克斯股份有限公司,未经日本麦可罗尼克斯股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201310184743.4/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:在光刻装置中交换晶片的方法
- 下一篇:用于质谱法的电离源设备和方法
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造