[发明专利]浸没式光刻机浸液液体传送系统中的控制系统的控制方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种浸没式光刻机中的控制方法，特别是涉及一种浸没式光刻机浸液液体传送系统中的控制系统的控制方法。

背景技术

光刻机是制造超大规模集成电路的核心装备之一，现代光刻机以光学光刻为主，它利用光学系统把掩膜版上的图形精确地投影并曝光在涂过光刻胶的硅片上。它包括一个激光光源、一个光学系统、一块由芯片图形组成的投影掩膜版、对准系统、机械传动系统和控制系统。

浸没式光刻（Immersion Lithography）设备通过在最后一片投影物镜与硅片之间填充某种高折射率的液体，相对于中间介质为气体的干式光刻机，提高了投影物镜的数值孔径（NA），从而提高了光刻设备的分辨率和焦深。在已提出的下一代光刻机中，浸没式光刻对现有设备改动最小，对现在的干式光刻机具有良好的继承性。目前常采用的方案是局部浸没法，即将液体限制在硅片上方和最后一片投影物镜的下表面之间的局部区域内，并保持稳定连续的液体流动。

从传统光刻到浸没式光刻，浸没式光刻机浸液液体传送系统的控制系统是实现稳定连续的液体流动的一项关键技术。已有的浸没式光刻机中浸液液体传送系统都需要考虑系统通讯架构和控制时序问题。时序控制方法能够确保浸没式光刻机中浸液液体传送系统运行的逻辑性和合理性，实现浸液液体传送系统故障处理。

目前已有的解决方案中，重点解决的问题是系统通讯架构问题，采用具有兼容性的系统软硬件实现不同系统之间的通讯。目前浸没式光刻机中浸液液体传送系统还没有形成固定的时序控制方法保证系统运行的逻辑性和合理性。

发明内容

为了解决浸没式光刻机中浸液液体传送系统的时序控制问题，本发明的目的在于提供一种浸没式光刻机浸液液体传送系统中的控制系统的控制方法。

本发明采用的技术方案包括以下步骤：

本发明浸没式光刻机浸液液体传送系统包括控制系统、水处理分系统、传输控制分系统和位姿调节分系统；其中控制系统和浸没式光刻机之间采用工业总线进行连接，控制系统与水处理分系统、传输控制分系统、位姿调节分系统之间采用以太网进行数据交换，控制系统分别负责对水处理分系统、传输控制分系统或位姿调节分系统进行时序控制和故障处理的时序控制。

所述的时序控制，均采用串行时序控制方法、并行时序控制方法中的一种或者两种。 

所述的串行时序控制方法是按照时序，先控制一个分系统，待检测到该分系统完成控制指令后，然后控制第二个分系统；所述的并行时序控制方法是按照时序，依次向二个或三个分系统发送控制指令，然后扫描检测分系统的完成情况。

所述的两种时序控制方法包括以下步骤，

(1) 浸没式光刻机将分系统参数传递到控制系统中，在此之前要保证控制系统通过工业总线与浸没式光刻机能够进行通讯；

(2)控制系统按时序协调水处理分系统、传输控制分系统、位姿调节分系统运作，在此之前保证控制系统接收到浸没式光刻机控制指令，或控制系统检测水处理分系统、传输控制分系统、位姿调节分系统存在故障或控制系统检测到水处理分系统、传输控制分系统、位姿调节分系统完成控制指令；

(3)控制系统依次开启水处理分系统、传输控制分系统、位姿调节分系统电源，在此之前保证控制系统接收到的光刻机控制指令有效；

(4)控制系统将系统参数依次传递给水处理分系统、传输控制分系统和位姿调节分系统，在此之前保证控制系统与水处理分系统、传输控制分系统、位姿调节分系统已经建立以太网通讯连接；

(5)控制系统循环扫描光刻机指令信息、水处理分系统状态信息、传输控制分系统状态信息、位姿调节分系统状态信息，并将此查询结果转化成时序控制关系；

(6)控制系统控制位姿调节分系统做好准备调节工作，在此之前保证控制系统接收到的浸没式光刻机指令有效；

(7)控制系统控制水处理分系统预备供水，在此之前保证控制系统接收到的浸没式光刻机指令有效；

(8)控制系统控制水处理分系统供水，在此之前保证水处理分系统已经做好供水准备，能够随时供水，且水质达标；

(9)控制系统控制传输控制分系统做好形成稳态流场的准备工作，在此之前保证水处理分系统正在供水；控制系统检测到水处理分系统、传输控制分系统、位姿调节分系统存在故障进行故障处理时，首先要保证传输控制分系统停止形成稳态流场的准备工作，然后保证水处理分系统停止工作；