[发明专利]液晶显示装置

说明书

技术领域

本发明涉及液晶显示技术领域，特别涉及一种液晶显示装置。

背景技术

薄膜晶体管液晶显示器（Thin Film Transistor-Liquid Crystal Display，TFT-LCD）因具有低辐射性、厚度薄和耗电低等特点而被广泛应用于平板显示领域中。最初，绝大多数桌面TFT-LCD都是采用TN（Twisted Nematic，扭转向列）模式，然而，TN型液晶显示器的第一电极和第二电极是分别形成在上下两个基板上，其液晶分子是在与基板正交的平面内旋转，由于液晶分子的光学各向异性，导致光从不同角度经过液晶分子后进入人眼的光程不同，因此其显示效果不同，必然导致视角范围比较小。

为了解决视角范围比较小的问题，IPS（In-Plane Switch，面内切换）模式等广视角技术被应用到相关产品中。在现有技术中，为了消除外部静电对IPS液晶显示装置的影响，也就是为了防止静电云纹(Mura)现象，通常会在彩色滤光片基板的外表面另外溅射一ITO（Indium Tin Oxide，氧化铟锡）层。而该ITO层是在彩色滤光片基板和阵列基板分别进行薄化处理以及液晶面板完成组立之后，再进行溅射的，这无形中延长了整个制程的时间，使得成本大大提高。

为了解决上述问题，可以在组立液晶面板之前，在彩色滤光片基板的内侧，也就是靠近液晶层的一侧形成ITO层，且该ITO层作为公共电极与阵列基板的公共电极导通，然后再完成液晶面板的组立。这样，可以简化工序，从而节省了制程时间，并降低生产成本。但是，在这种方法中，由于彩色滤光片基板中的ITO层作为公共电极与阵列基板的公共电极导通，使得彩色滤光片基板的ITO层与阵列基板的像素电极之间存在比较强的垂直电场，对液晶分子在平面内转动具有一定的抑制作用，使得液晶显示装置的穿透率降低、响应时间拉长。

发明内容

本发明要解决的主要技术问题是提供一种液晶显示装置，具有较广的视角范围和较高的穿透率。

为解决上述技术问题，本发明提供了一种液晶显示装置，包括：第一基板、与所述第一基板相对设置的第二基板、以及夹设于所述第一基板与所述第二基板之间的液晶层。所述第一基板包括：第一透明基底、依次形成于所述第一透明基底靠近所述第二基板的表面上的彩色滤光片层以及第一配向层，所述第一基板还包括第一电极，所述第一电极夹设于所述彩色滤光片层中。所述第二基板包括：第二透明基底、依次形成于所述第二透明基底靠近所述第一基板的表面上的第二电极及第三电极以及第二配向层，其中，所述第二电极与所述第三电极分别位于不同层上，且所述第二电极与所述第三电极之间夹设有绝缘层，以电性绝缘所述第二电极和所述第三电极。

于本发明的一种具体实施方式中，所述彩色滤光片层包括黑矩阵以及光阻层，所述黑矩阵形成于所述第一透明基底靠近所述第二基板的表面上，所述第一电极覆盖所述黑矩阵，所述光阻层形成于所述第一电极远离所述第一透明基底的表面上。

于本发明的一种具体实施方式中，所述第一电极直接形成于所述黑矩阵以及所述第一透明基底靠近所述第二基板的表面中未形成有所述黑矩阵的部分，所述光阻层直接形成于所述第一电极远离所述第一透明基底的表面上。

于本发明的一种具体实施方式中，所述第一配向层直接形成于所述光阻层远离所述第一透明基底的表面上。

于本发明的一种具体实施方式中，所述彩色滤光片层还包括保护层，所述保护层直接形成于所述光阻层远离所述第一透明基底的表面上，所述第一配向层位于所述保护层与所述液晶层之间。

于本发明的一种具体实施方式中，所述彩色滤光片层还包括保护层，所述保护层直接形成于所述黑矩阵以及所述第一透明基底靠近所述第二基板的表面中未形成有所述黑矩阵的部分，所述第一电极直接形成于所述保护层远离所述第一透明基底的表面上，所述光阻层直接形成于所述第一电极远离所述第一透明基底的表面上。

于本发明的一种具体实施方式中，所述彩色滤光片层包括依次形成于所述第一透明基底靠近所述第二基板的表面上的黑矩阵、光阻层，所述黑矩阵直接形成于所述第一透明基底的所述表面上、所述光阻层直接形成于所述黑矩阵以及所述第一透明基底靠近所述第二基板的表面中未形成有所述黑矩阵的部分，所述第一电极直接形成于所述光阻层远离所述第一透明基底的表面上。

于本发明的一种具体实施方式中，所述彩色滤光片层还包括保护层，所述保护层直接形成于所述第一电极远离所述第一透明基底的表面上，所述第一配向层直接形成于所述保护层远离所述第一透明基底的表面上。