[发明专利]一种有机电致发光器件及其制备方法

权利要求书

1.一种有机电致发光器件，其特征在于，包括第一发光单元组和第二发光单元组，以及设置在所述第一发光单元组和第二发光单元组之间的透明隔离层，所述第一发光单元组包括第一基板和单行或多行并列设置在所述第一基板上的多个绿光发光单元，所述多个绿光发光单元通过第一公共电极并联在一起，所述多个绿光发光单元通过设置在所述第一基板表面的多个隔离柱隔开设置，所述第一基板通过粘结剂与所述透明隔离层形成第一封闭空间，所述多个绿光发光单元容置在所述第一封闭空间内；

所述第二发光单元组包括第二基板和交替间隔设置在所述第二基板上的多个蓝光发光单元和多个红光发光单元，所述多个蓝光发光单元与多个红光发光单元分单行或多行并列设置在所述第二基板上，每两个发光单元之间通过设置在所述第二基板表面的隔离柱隔开，所述多个蓝光发光单元通过第二公共电极并联在一起，所述多个红光发光单元通过第三公共电极并联在一起，所述第二基板通过粘结剂与所述透明隔离层形成第二封闭空间，所述多个蓝光发光单元和多个红光发光单元容置在所述第二封闭空间内。

2.如权利要求1所述的有机电致发光器件，其特征在于，所述绿光发光单元包括绿光发光层，所述绿光发光层的材质为荧光发光材料或绿光主体材料掺杂磷光材料形成的混合材料，所述荧光发光材料为2,3,6,7-四氢-1,1,7,7-四甲基-1H,5H,11H-10-(2-苯并噻唑基)-喹嗪并[9,9A,1GH]香豆素，(8-羟基喹啉)-铝和二甲基喹吖啶酮中的一种，所述绿光主体材料为4,4’,4’’-三(咔唑-9-基)-三苯胺或1,3,5-三(1-苯基-1H-苯并咪唑-2-基)苯，所述磷光材料为乙酰丙酮酸二（2-苯基吡啶）铱，三(2-苯基吡啶)合铱或三[2-(对甲苯基)吡啶]合铱(III)，所述磷光材料的掺杂质量分数为5～20%。

3.如权利要求1所述的有机电致发光器件，其特征在于，所述红光发光层的材质为4-（二腈甲基）-2-丁基-6-（1,1,7,7-四甲基久洛呢啶-9-乙烯基）-4H-吡喃掺杂在8-羟基喹啉铝中形成的混合材料，（乙酰丙酮）合铱掺杂在N,N'-二苯基-N,N'-二(1-萘基)-1,1'-联苯-4,4'-二胺中形成的混合材料，三（1-苯基-异喹啉）合铱掺杂在N,N'-二苯基-N,N'-二(1-萘基)-1,1'-联苯-4,4'-二胺中形成的混合材料，或双（2-（苯并[b]噻吩-2-基）吡啶）（乙酰丙酮）合铱掺杂在4,4'-二(9-咔唑)联苯中形成的混合材料，掺杂质量分数为1～20%。

4.如权利要求1所述的有机电致发光器件，其特征在于，所述蓝光发光单元包括蓝光发光层，所述蓝光发光层的材质为蓝光主体材料掺杂磷光材料形成的混合材料，所述蓝光主体材料为1,3,5-三(1-苯基-1H-苯并咪唑-2-基)苯或4,4'-二(9-咔唑)联苯；所述磷光材料为双（4,6-二氟苯基吡啶-N,C2）吡啶甲酰合铱或双（4,6-二氟苯基吡啶）-四（1-吡唑基）硼酸合铱，所述磷光材料的掺杂质量分数为2～20%。

5.如权利要求1所述的有机电致发光器件，其特征在于，所述绿光发光层的厚度为10～30nm；所述红光发光层的厚度为1～20nm；所述蓝光发光层的厚度为5～20nm。

6.如权利要求1所述的有机电致发光器件，其特征在于，所述隔离柱的材质选自二氧化硅、二氧化钛和氮化硅中的一种。

7.如权利要求1所述的有机电致发光器件，其特征在于，所述绿光发光单元与蓝光发光单元、以及红光发光单元的单个面积之比为1:1:1。

8.如权利要求1所述的有机电致发光器件，其特征在于，所述绿光发光单元的个数与所述蓝光发光单元和红光发光单元两者的总个数相同。

9.如权利要求1所述的有机电致发光器件，其特征在于，所述透明隔离层为普通透明玻璃，柔性透明材料层或透明绝缘涂层。

10.一种有机电致发光器件的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

提供洁净的第一基板和第二基板，在真空镀膜系统中，在所述第一基板上制备多个单行或多行并列设置的多个隔离柱，再在所述多个隔离柱两侧的第一基板上并列制备多个绿光发光单元，再采用第一公共电极将多个绿光发光单元并联在一起，得到第一发光单元组；在所述第二基板上制备多个单行或多行并列设置的多个隔离柱，再在所述多个隔离柱两侧的第二基板上交替间隔制备多个蓝光发光单元和多个红光发光单元，再采用第二公共电极将多个蓝光发光单元并联在一起，采用第三公共电极将多个红光发光单元并联在一起，得到第二发光单元组；

在所述第一发光单元组和第二发光单元组之间设置透明隔离层，然后采用粘结剂将第一基板和第二基板粘结，形成密封结构，得到有机电致发光器件；

所述第一基板通过粘结剂与所述透明隔离层形成第一封闭空间，所述多个绿光发光单元容置在所述第一封闭空间内；

所述第二基板通过粘结剂与所述透明隔离层形成第二封闭空间，所述多个蓝光发光单元和多个红光发光单元容置在所述第二封闭空间内；

所述真空镀膜系统的真空度为1×10^-5～1×10^-3Pa，所述多个隔离柱，以及各个发光单元的阳极采用磁控溅射的方式制备，所述各个发光单元的其他各功能层均采用真空蒸镀的方式制备。