[发明专利]磁共振装置中成像磁场测量和校正的方法及系统有效

专利信息
申请号: 201310191003.3 申请日: 2013-05-21
公开(公告)号: CN104181480B 公开(公告)日: 2017-02-08
发明(设计)人: 蔡昆玉;张卫国;张强 申请(专利权)人: 上海联影医疗科技有限公司
主分类号: G01R33/389 分类号: G01R33/389;G01R33/58;G01R33/387;G01R33/385
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 201815 上海市嘉*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 磁共振 装置 成像 磁场 测量 校正 方法 系统
【权利要求书】:

1.一种磁共振装置中成像磁场测量和校正的方法,其特征在于,包括:

提供成像磁场,所述成像磁场用于对待扫描对象进行扫描;

采集与所述成像磁场相对应的信号;

处理所述信号,获得实际磁场强度;

基于所述实际磁场强度与目标磁场强度的偏差进行校正。

2.如权利要求1所述的方法,其特征在于,

提供成像磁场的步骤包括:通过磁共振装置的磁组件提供成像磁场;

所述采集与所述成像磁场相对应的信号的步骤包括:提供测量射频信号以激发监测样本并产生与所述成像磁场相对应的测量磁共振信号,采集所述测量磁共振信号;

所述处理所述信号,获得实际磁场强度的步骤包括:基于磁共振原理,根据测量磁共振信号获得实际磁场强度。

3.如权利要求2所述的方法,其特征在于,

提供测量射频信号的步骤包括:通过固定于所述磁组件中的探头或者体线圈提供所述测量射频信号。

4.如权利要求3所述的方法,其特征在于,提供测量射频信号以激发位于所述探头内部的监测样本,所述监测样本产生与所述成像磁场相对应的测量磁共振信号。

5.如权利要求2所述的方法,其特征在于,形成所述测量磁共振信号的步骤包括:采用与成像时相同或者不同的质子作为监测样本,以产生测量磁共振信号。

6.如权利要求2所述的方法,其特征在于,所述校正的步骤包括对成像磁场进行校正。

7.如权利要求6所述的方法,其特征在于,在对待扫描对象进行扫描之前,对所述成像磁场进行测量与校正。

8.如权利要求6所述的方法,其特征在于,在对待扫描对象进行扫描过程中,对所述成像磁场进行测量与校正。

9.如权利要求2所述的方法,其特征在于,采集测量磁共振信号的步骤包括:采用多次激发多次采集或者一次激发多次采集的方式获得测量磁共振信号。

10.如权利要求2所述的方法,其特征在于,采集测量磁共振信号的步骤包括:

采集一组测量磁共振信号;

处理所述信号,获得实际磁场强度的步骤包括:基于所述一组测量磁共振信号建立实际磁场强度的物理模型,以预测实际磁场强度的变化。

11.如权利要求6所述的方法,其特征在于,

所述基于所述实际磁场强度与目标磁场强度的偏差进行校正的步骤包括:

基于实际磁场强度与目标磁场强度的偏差获得成像磁场校正量;

根据成像磁场校正量获得所述磁组件的电流调整量;

基于所述磁组件的电流调整量校正磁组件所提供的成像磁场;其中,所述实际磁场强度与目标磁场强度的偏差,经过运算能分为均匀项偏差、线性项偏差以及高阶项偏差。

12.如权利要求11所述的方法,其特征在于,所述磁组件包括梯度线圈;

所述根据成像磁场校正量获得所述磁组件的电流调整量的步骤包括:根据成像磁场校正量获得所述梯度线圈的电流调整量;

所述基于所述磁组件的电流调整量校正磁组件所提供的成像磁场的步骤包括:调整所述梯度线圈的电流,以实现线性项偏差校正。

13.如权利要求12所述的方法,其特征在于,所述磁组件还包括匀场线圈;

所述根据成像磁场校正量获得所述磁组件的电流调整量的具体步骤包括:

根据成像磁场校正量获得所述匀场线圈的电流调整量;

所述基于所述磁组件的电流调整量校正磁组件所提供的成像磁场的步骤包括:调整所述匀场线圈的电流,以实现线性项以及高阶项偏差的校正。

14.如权利要求12或13所述的方法,其特征在于,所述磁组件还包括主成像磁场漂移补给线圈;

所述根据成像磁场校正量获得所述磁组件的电流调整量的具体步骤包括:

根据成像磁场校正量获得所述主成像磁场漂移补给线圈的电流调整量;

所述基于所述磁组件的电流调整量校正磁组件所提供的成像磁场的步骤包括:调整主成像磁场漂移补给线圈的电流,以实现均匀项偏差的校正。

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