[发明专利]真空吸盘及装设有真空吸盘的支架型真空吸附设备有效
申请号: | 201310191509.4 | 申请日: | 2013-05-22 |
公开(公告)号: | CN104175320B | 公开(公告)日: | 2017-05-03 |
发明(设计)人: | 王人杰 | 申请(专利权)人: | 由田新技股份有限公司 |
主分类号: | B25J15/06 | 分类号: | B25J15/06 |
代理公司: | 长沙正奇专利事务所有限责任公司43113 | 代理人: | 何为,袁颖华 |
地址: | 中国台湾新北市中*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 真空 吸盘 装设 支架 吸附 设备 | ||
1.一种支架型真空吸附设备,用以吸附并移载至少一工件,该支架型真空吸附设备包含有移动装置,该移动装置包含有二首尾相连的横臂,一设置于该横臂与横臂间的枢转机构,以及连接于该横臂以操作该横臂移动的载具;其特征在于,该支架型真空吸附设备还包括至少三真空吸盘,三真空吸盘吸盘分别包含有装设于该横臂上的吸盘本体、设置于该吸盘本体一侧的吸嘴、以及设置于吸嘴底侧的摩擦垫片,该吸盘本体包含有入气道,该吸嘴包含有设置于该吸嘴底侧的外环部以及内环部,该外环部相对该内环部上下调整,该外环部及该内环部之间包含有一由该吸嘴底侧朝该入气道方向渐缩并连通于该入气道的环状气隙,气体经由该入气道向该环状气隙吹出时形成用以吸附该工件的环状真空区域,该摩擦垫片设置于该内环部上,该工件受该环状真空区域吸附时依靠于该摩擦垫片上,藉由该工件与该摩擦垫片间的摩擦力抵销该工件所承受的侧向力。
2.如权利要求1所述的支架型真空吸附设备,其特征在于,所述环状真空区域的吸力与该气体吹出的斥力相互平衡形成该工件与该外环部底侧间的平衡间隙,该摩擦垫片的底侧与该外环部底侧间的距离等于或大于该平衡间隙。
3.如权利要求2所述的支架型真空吸附设备,其特征在于,所述载具为移载装置、翻面装置或旋转装置。
4.如权利要求2所述的支架型真空吸附设备,其特征在于,所述摩擦垫片由聚胺酯或氯丁橡胶所制成。
5.如权利要求2所述的支架型真空吸附设备,其特征在于,所述内环部相对该外环部上下调整。
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