[发明专利]超声清洁方法以及超声清洁装置无效

专利信息
申请号: 201310193863.0 申请日: 2013-05-22
公开(公告)号: CN103418575A 公开(公告)日: 2013-12-04
发明(设计)人: 内部真佐志;森良弘;榛原照男;久保悦子 申请(专利权)人: 硅电子股份公司
主分类号: B08B3/12 分类号: B08B3/12
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 过晓东;谭邦会
地址: 德国*** 国省代码: 德国;DE
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摘要:
搜索关键词: 超声 清洁 方法 以及 装置
【权利要求书】:

1.一种超声清洁方法,用于在溶解有气体的液体中清洁待清洁物体(W),所述方法用超声波辐照所述液体,并包括以下步骤:

-制备溶解有所述气体的所述液体;以及

-在用超声波辐照所述液体的同时清洁待清洁的所述物体(W),以使相对于没有施加超声波的情况,其中溶解有所述气体的所述液体其折射率的空间变化率更大的区域出现在沿超声波行进的方向。

2.权利要求1的超声清洁方法,其包括测量所述液体折射率的空间变化率的步骤。

3.权利要求2的超声清洁方法,其中测量所述液体折射率的空间变化率的所述步骤包括在施加超声波于所述液体的状态下,在施加平行光于所述液体的同时观测已通过所述液体的透射光的步骤。

4.权利要求2的超声清洁方法,其中测量所述液体折射率的空间变化率的所述步骤包括以下步骤:

-在施加超声波于所述液体的状态下,在施加平行光于所述液体的同时观测已通过所述液体的第一透射光;以及

-在没有施加超声波于所述液体的状态下,在施加平行光于所述液体的同时观测已经通过所述液体的第二透射光。

5.权利要求2~4之一的超声清洁方法,其中在清洁待清洁物体(W)的所述步骤中,根据所述空间变化率调节所述液体,以实现含有所述气体的气泡在所述液体中连续产生的状态。

6.权利要求1~5之一的超声清洁方法,其中清洁待清洁物体(W)的所述步骤包括其中发生声致发光的步骤。

7.权利要求1~6之一的超声清洁方法,其中所述气体为氮气,并且所述液体的溶解气体的浓度为5ppm或以上。

8.一种超声清洁装置(100),用于在溶解有气体的液体中清洁待清洁的物体(W),所述装置用超声波辐照所述液体,并包括:

-能够用超声波辐照所述液体的辐照设备(30);

能够容纳所述液体的容器(20);以及

能够测量所述液体折射率的空间变化率的器件(71)。

9.权利要求8的超声清洁装置(100),其包括能够根据所述空间变化率,实现含有所述气体的气泡在所述液体中连续产生的状态的调节机构(45)。

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