[发明专利]一种晶圆级LED封装方法有效
申请号: | 201310197548.5 | 申请日: | 2013-05-24 |
公开(公告)号: | CN103280508A | 公开(公告)日: | 2013-09-04 |
发明(设计)人: | 谢晔;陈栋;张黎;陈锦辉;赖志明 | 申请(专利权)人: | 江阴长电先进封装有限公司 |
主分类号: | H01L33/48 | 分类号: | H01L33/48;H01L33/54;H01L33/62 |
代理公司: | 南京经纬专利商标代理有限公司 32200 | 代理人: | 彭英 |
地址: | 214429 江苏省无锡市江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 晶圆级 led 封装 方法 | ||
1.一种晶圆级LED封装方法,包括步骤:
提供具有正负电极(110)的LED芯片(100);
提供硅本体(200),所述硅本体(200)的一个表面设置硅基型腔(210),所述硅基型腔(210)内壁和底部沉积若干层绝缘层(211),所述绝缘层(211)的表面形成反射层(212),所述硅基型腔(210)底部的反射层(212)上形成反射层开口(213),所述硅基型腔(210)内设置导电电极(300),所述导电电极(300)成形于反射层开口(213)内;
提供载体圆片(T1),所述载体圆片(T1)与硅本体(200)的上述表面通过键合物质(T2)进行键合;
所述硅基型腔(210)的另一个表面通过研磨、蚀刻的方法形成若干个硅通孔(220),所述硅通孔(220)内沉积若干层绝缘保护层(221),所述绝缘保护层(221)同时覆盖硅本体(200)的上述表面,利用光刻、显影、蚀刻和/或激光打孔等方法将硅通孔(220)顶部的绝缘保护层(221)打开,露出导电电极(300),在绝缘保护层(221)上覆盖金属线路层(222),所述金属线路层(222)亦覆盖露出的导电电极(300)的上述表面,并于电极(110)的正负极间隙的对应下方断开,通过光刻工艺在金属线路层(222)表面涂覆线路表面保护层(223),并选择性地形成线路表面保护层开口(224);
通过圆片解键合工艺把载体圆片(T1)从硅本体(200)表面剥离;
将LED芯片(100)倒装于硅基型腔(210)内,所述电极(110)与导电电极(300)连接,所述硅基型腔(210)内填充光致发光层(400),所述光致发光层(400)覆盖LED芯片(100)的出光面,所述光致发光层(400)的出光面为平面、弧面或球面;
通过晶圆切割分离的方法形成单颗晶圆级LED封装结构。
2.根据权利要求1所述的一种晶圆级LED封装方法,其特征在于:所述导电电极(300)通过溅射、光刻和/或电镀工艺形成于硅基型腔(210)内。
3.根据权利要求1或2所述的一种晶圆级LED封装方法,其特征在于:所述导电电极(300)与反射层(212)不接触。
4.根据权利要求1所述的一种晶圆级LED封装方法,其特征在于:所述硅基型腔(210)通过光刻工艺和/或刻蚀工艺方法形成。
5.根据权利要求1所述的一种晶圆级LED封装方法,其特征在于:所述绝缘层(211)采用涂胶或等离子体增强化学气相沉积法沉积于硅基型腔(210)内壁和底部。
6.根据权利要求1所述的一种晶圆级LED封装方法,其特征在于:所述反射层(212)采用磁控溅射或电子束蒸发方法形成于绝缘层(211)上。
7.根据权利要求1所述的一种晶圆级LED封装方法,其特征在于:所述反射层开口(213)通过光刻和/或腐蚀的工艺在硅基型腔(210)底部的反射层(212)上形成。
8.根据权利要求1所述的一种晶圆级LED封装方法,其特征在于:所述绝缘保护层(221)采用涂胶或等离子体增强化学气相沉积法沉积于硅本体(200)的另一个表面。
9.根据权利要求1所述的一种晶圆级LED封装方法,其特征在于:所述金属线路层(222)通过溅射、光刻和/或电镀的方法覆盖于绝缘保护层(221)上。
10.根据权利要求1所述的一种晶圆级LED封装方法,其特征在于:所述倒装方式为倒装回流或热压焊的方式。
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