[发明专利]一种多孔g-C3N4光催化剂及其制备方法有效
申请号: | 201310199977.6 | 申请日: | 2013-05-27 |
公开(公告)号: | CN103240121A | 公开(公告)日: | 2013-08-14 |
发明(设计)人: | 朱永法;张沫 | 申请(专利权)人: | 清华大学 |
主分类号: | B01J31/06 | 分类号: | B01J31/06;B01J35/10 |
代理公司: | 北京纪凯知识产权代理有限公司 11245 | 代理人: | 关畅;王春霞 |
地址: | 100084 北京市海淀区北京*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 多孔 sub 光催化剂 及其 制备 方法 | ||
技术领域
本发明涉及一种多孔g-C3N4光催化剂及其制备方法,属于光催化材料及其制备方法技术领域。
背景技术
g-C3N4是一种具有层状结构的聚合物半导体,由于其禁带宽度为2.7eV左右,在可见光区有吸收(λ>420nm),且具有优异的光化学稳定性,在光解水制氢和有机污染物的降解等方面有广泛的应用前景。然而,传统的g-C3N4的制备方法得到的产物比表面积都较小,导致其光催化活性较低。为解决g-C3N4的活性较低问题,相关研究人员采用提高比表面积的方法大幅度增强其催化性能。现有技术中报道的介孔g-C3N4,具有很大比表面积,但其制备方法大都需要先使用模板剂,最后再用酸将模板除去,合成过程比较繁琐,不利于环境保护和大规模制备。
发明内容
本发明的目的是提供一种多孔g-C3N4光催化剂及其制备方法,该方法使用气泡模板,可以得到大比表面积的g-C3N4,工艺简单,适合大规模制备。
本发明所提供的一种多孔g-C3N4光催化剂的制备方法,包括如下步骤:
(1)将经研磨后的双氰胺和尿素混合均匀得到混合物;
(2)将所述混合物置于煅烧容器内进行煅烧,即得所述多孔g-C3N4光催化剂。
上述的制备方法中,步骤(1)中,将所述双氰胺和所述硫脲均可在球磨机中研磨;
所述球磨机球磨的速率可为100~500r/min,所述球磨机球磨的时间可为10~100分钟。
上述的制备方法中,所述混合物中,所述尿素的质量百分含量可为10%~70%,具体可为20%~70%、10%、20%、30%、40%、50%、60%或70%。
上述的制备方法中,步骤(2)中,所述煅烧包括依次进行的升温加热和恒温的步骤。
上述的制备方法中,所述升温加热的升温速率可为1℃/min~12℃/min。
上述的制备方法中,从室温至110℃的升温速率可为5℃/min;110℃~300℃的升温速率可为1℃/min~12℃/min,具体可为1℃/min~8℃/min、1℃/min、3℃/min、5℃/min或8℃/min;
300℃~600℃的升温速率可为5℃/min。
上述的制备方法中,所述恒温的温度可为500~600℃,具体可为520℃、530℃、540℃或550℃,所述恒温的时间可为1~8小时,如4小时。
本发明还进一步提供了由上述方法制备的多孔g-C3N4光催化剂;所述多孔g-C3N4光催化剂的比表面积为7.3m2/g~60.2m2/g。
本发明提供的多孔结构的g-C3N4具有良好的光催化降解污染物及光电流响应性能;与现有技术相比,本发明利用气泡模板法制备得到高比表面积的g-C3N4,原料价廉、工艺简单,适合于工业化大批量生产,具有很高的应用前景和实用价值。
附图说明
图1为实施例1制备的多孔g-C3N4的TEM图。
图2为实施例1制备的多孔g-C3N4的孔分布图。
图3为实施例1制备的尿素含量为0%和70%的多孔g-C3N4的XRD对比图。
图4为实施例2制备的多孔g-C3N4的孔分布图。
具体实施方式
下述实施例中所使用的实验方法如无特殊说明,均为常规方法。
下述实施例中所用的材料、试剂等,如无特殊说明,均可从商业途径得到。
本发明下述实施例中所使用的反应初始物为市售分析纯的尿素、双氰胺,目标降解物为市售分析纯的亚甲基蓝(MB),去离子水为自制。
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