[发明专利]一种Ho掺杂ScVO4发光材料及其熔体法晶体生长方法无效
申请号: | 201310200110.8 | 申请日: | 2013-05-24 |
公开(公告)号: | CN103320860A | 公开(公告)日: | 2013-09-25 |
发明(设计)人: | 林鸿良;陈俊 | 申请(专利权)人: | 合肥晶桥光电材料有限公司 |
主分类号: | C30B29/30 | 分类号: | C30B29/30;C09K11/82 |
代理公司: | 安徽合肥华信知识产权代理有限公司 34112 | 代理人: | 余成俊 |
地址: | 230041 安徽省合*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 ho 掺杂 scvo sub 发光 材料 及其 熔体法 晶体生长 方法 | ||
技术领域
本发明涉及发光材料和晶体生长领域, Ho掺杂的钒酸钪HozSc1-zVO4,以及它们的熔体法晶体生长方法。
背景技术
Ho掺杂获发光材料是重要的2 μm波段激光晶体,在医疗、国防、信息、科研等领域有广泛的应用前景。但效率低下是这一类激光晶体的主要问题。因而,探索性能优良的新型Ho掺杂激光晶体是目前的重要课题。ScVO4具有稳定的化学特性和优良的物理性能,HozSc1-zVO4 有良好的发光性能,因而,Ho:ScVO有望成为性能优良的新型2μm波段激光晶体。
发明内容
本发明的目的是提供稀土钒酸盐HozSc1-zVO4发光材料及其熔体法晶体生长方法,获得性能优良的发光材料,有望用于显示和激光技术领域。
本发明是通过以下技术方案实现的:
一种Ho掺杂ScVO4发光材料,所述发光材料的分子式可表示为 HozSc1-zVO4,所述z的取值范围为:0.0001≤z≤0.1。
一种HozSc1-zVO4 熔体法晶体生长方法,包括以下步骤:
(1)采用Ho2O3、Sc2O3、V2O5作为原料,按如下化合式进行配料,将其充分混合均匀后,压制,在60-80℃下进行预烧50-60分钟,再压制,冷却后再烧结:所述的再烧结温度为920-1020℃,烧结时间为30-70小时,结得生长晶体所需的多晶原料:
所述的化合式为: ;
(2)把上述得到的多晶原料放入生长坩埚内,通过加热并充分熔化,获得晶体生长初始熔体;
(3)采用熔体法晶体生长法进行生长,获得HozSc1-zVO4 单晶。
一种HozSc1-zVO4 发光材料的熔体法晶体生长方法,不采用籽晶定向生长,或者采用籽晶定向生长;对于采用籽晶定向生长,籽晶为HozSc1-zVO4或ScVO4单晶,籽晶方向为晶体的<100>、<010>或<001>方向,以及其它任意方向。
一种HozSc1-zVO4熔体法晶体生长方法,所述配料中,所用原料Ho2O3、Sc2O3、V2O5,可采用相应的 Ho、Sc、V的其它化合物代替,原料合成方法包括高温固相反应、液相合成、气相合成方法,但需满足能通过化学反应能最终形成化合物 HozSc1-zVO4这一条件。
一种HozSc1-zVO4的熔体法晶体生长方法,由于晶体生长过程中的存在组分分凝效应,设所述HozSc1-zVO4晶体中某种元素的分凝系数为k,k=0.01-1,则当所述的生长步骤中 Ho、Sc、V的化合式中该元素的化合物的质量为W时,则在配料中应调整为W/k。
本发明的优点是:
本发明制备的方法易操作,可控,反应简单,对设备要求不高,用时不多,节约了生产成本,该发明的HozSc1-zVO4可用作发光显示材料、2μm激光工作物质等。
具体实施方式
实施例1
制备 Ho掺杂浓度分别为0.5at%的HozSc1-zVO4单晶:
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