[发明专利]具有图形化界面的发光元件及其制造方法

权利要求书

1.一种发光元件，包含：

基板，包含多个第一区域与多个第二区域，该些第一区域和该些第二区域呈一二维阵列排列；

其中，各该些第一区域内包含2n个特征尺寸各不相同的图案结构构成的一第一组图案结构，各该些第二区域内包含2n个特征尺寸各不相同的图案结构构成的一第二组图案结构，且第一组图案结构中的该些图案结构的特征尺寸与第二组图案结构中的该些图案结构的特征尺寸完全不重复；

其中，各该些第一组图案结构之间的该些图案结构排列方式彼此不相同；

其中，各该些第二组图案结构之间的该些图案结构排列方式彼此不相同；

其中，该些第一区域与该些第二区域分别交错排列；

其中，各该些图案结构于该基板上呈随机图案排列。

2.如权利要求1所述的发光元件，其中，该第一组图案结构中各该些图案结构具有相同的上视形状。

3.如权利要求1所述的发光元件，其中，该第一组图案结构中各该些图案结构包含正多边形或圆形的上视形状。

4.如权利要求1所述的发光元件，其中，该些特征尺寸介于0.5μm至10μm之间。

5.如权利要求1所述的发光元件，其中，各该些第一组图案结构中该些图案结构各自包含几何中心，并且任两相邻的该些几何中心的距离相同。

6.如权利要求1所述的发光元件，其中，该些特征尺寸满足以下公式：

其中，r_m及r_M分别为该些结构中的该些特征尺寸的最小及最大值。

7.如权利要求1所述的发光元件，其中，各该些第一组图案结构中的图案结构包含圆锥或角锥的上视形状。

8.如权利要求1所述的发光元件，还包含外延叠层；其中，该些图案结构形成于该基板及该外延叠层之间。

9.如权利要求8所述的发光元件，其中该基板与该外延叠层为单晶结构。

10.如权利要求1所述的发光元件，还包含外延叠层；其中，该些图案结构形成于该外延叠层远离该基板的表面上。

11.如权利要求10所述的发光元件，还包含粘着层，介于该基板及该外延叠层之间。

12.如权利要求1所述的发光元件，其中，各该些图案结构表面还包含一高低不超过0.5μm的微结构。

13.一发光元件的制造方法，包含以下步骤：

提供一基材；

根据一模拟运算产生一随机图案排列；

形成一掩模层，具有该随机图案；以及

移除部分的该基材，使该基材表面具有该随机图案排列；

其中，该随机图案排列包含多个第一区域与多个第二区域；

其中，每一该些第一区域内包含2n个特征尺寸各不相同的图案结构构成的一第一组图案结构，每一该些第二区域内包含2n个特征尺寸各不相同的图案结构构成的一第二组图案结构，且该第一组图案结构中的该些图案结构与该第二组图案结构中的该些图案结构完全不重复；

其中，各该些第一组图案结构之间的该些图案结构排列方式彼此不相同。

14.如权利要求13所述的制造方法，其中该模拟运算包括蒙地卡罗模拟运算(MonteCarlo Simulation)。

15.如权利要求13所述的制造方法，还包括移除该掩模层。

16.如权利要求13所述的制造方法，还包括外延成长一外延叠层于该基材上。