[发明专利]热熔流剂的传送设备内表面涂层及制备方法有效

专利信息
申请号: 201310203322.1 申请日: 2013-05-28
公开(公告)号: CN103287011A 公开(公告)日: 2013-09-11
发明(设计)人: 朱余宏;胡丽亚 申请(专利权)人: 滁州晨润工贸有限公司
主分类号: B32B9/04 分类号: B32B9/04;B32B15/082;B32B27/30;B32B1/08
代理公司: 南京众联专利代理有限公司 32206 代理人: 顾进
地址: 239000 安徽*** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 热熔流剂 传送 设备 表面 涂层 制备 方法
【说明书】:

技术领域

 本发明涉及热熔流剂的传送设备内表面涂层及制备方法,本涂层有较强的隔热阻热功能,防止热熔流剂挂壁,属于化工领域。

背景技术

很多塑料产品的主要有效成分是聚乙烯,在塑料产品成型的前,需要将塑料热熔,形成液体形态,塑料产品的原料在热熔箱内被热熔成液体,通过传送设备传送到热塑设备,形成塑料模具或产品。对传送设备要有严格的保温要求,和防止热熔塑料粘附在设备内壁,目前的传送设备内壁总是会粘附热熔塑料,要定期地使用清洗剂清洗,设备要周期性停机清洗,设备停机后,再次使用时,要进行预热,使得设备内部环境达到让热熔塑料能正常传送状态,温度通常在150°以上,需要消耗大量的热量,且不利于工业上的连续生产,人们一直在研究一种能延长热熔塑料传送设备停机清洗周期的方法,但是目前尚未较好的可实施的方式。

发明内容

为了解决上述存在的问题,本发明公开了一种热熔流剂的传送设备内表面涂层及制备方法,本涂层可以有效防止热熔塑料粘附,阻挡热量散失,保持稳定的传送设备内部环境,本方法能有效保证固定支撑层、保温层、真空层和内层的固定位置,以及连接稳定。

制造热熔流剂的传送设备内表面涂层的方法,步骤如下:

a.所述碳末颗粒在转速6400转/分钟的高速下旋转打磨,最终形成碳末层的厚度小于50mm,碳末颗粒的直径小于0.0025mm的碳末层,碳末层两表面均用金刚石打磨板打磨光滑,碳末层的内表面打磨线速度为2m/s,打磨时间不少于15分钟,碳末层的外表面打磨速度为1.7m/s,打磨时间不少于10分钟;

b.将木质支撑柱表面和两端打磨光滑,在支撑柱的一端均匀涂上强力胶水,支撑柱的端部四周均涂有强力胶水,将支撑柱涂有胶水的一端粘附在内层的外表面,支撑柱间隔排布,等待强力胶水完全变干凝固,支撑柱固定在内层的外表面;

c.通过电镀的方法在碳末层的外表面、保温层的内表面镀上银层,,镀银层的厚度小于0.2mm;

d.在支撑柱的另一端均匀涂上强力胶水,端部的四周均涂有强力胶水,强力胶水涂上后,快速将聚苯乙烯泡沫塑料板平整地覆盖在内层的外面,并与支撑柱接触,保持聚苯乙烯泡沫塑料板与支撑柱紧密接触位置不动,直到强力胶水完全凝固;

e.聚苯乙烯泡沫塑料板的拼接处用高强度胶水粘结;

f.合金层为将各合金按照质量配比混合热熔,形成混合金属热熔液,经过模型浇筑,形成厚度一致的固定支撑层;

g.固定支撑层、保温层、真空层和内层形成特定的输送设备管道,四周密闭,前后贯通,真空层的前后密封,真空层的一端留有抽真空孔,通过真空孔抽吸形成内部真空,达到真空层内部真空度后,将抽真空孔密封。

所述步骤a中的碳末层的制备方法,包括以下步骤:

(1)取厚度不小于5cm的碳末板,在温度低于4℃,惰性气体环境中,用砂石打磨两侧,并吹风,风向垂直于碳末板;

(2)将步骤(1)所得碳末板,在温度低于0℃,惰性气体环境中,用大理石打磨两侧,并吹风,风向垂直于碳末板;

(3)将步骤(2)所得碳末板,用350公斤的挤压力,挤压8小时以上;

(4)将步骤(3)所得碳末板,时效处理6小时以上,

(5)将步骤(4)所得碳末板,在300℃高温,CO环境中,用金刚石磨刀打磨, 直到打磨后的碳末板平面上,用垂直于碳末板平面的平行光线照射,被垂直反射的光线达到86%以上。

所述步骤(1)所用的砂石的表面颗粒直径不小于0.2mm,砂石打磨时间不少于5分钟。

所述步骤(2)所用的大理石的表面垂直入射光线,垂直反射的光线不少于50%,大理石打磨,直到碳末板表面的垂直入射光线,垂直反射的光线不少于45 %。

一种热熔流剂的传送设备内表面涂层,包括固定支撑层、保温层、相邻的两道真空层和内层,所述固定支撑层的主要成分为合金层,保温层为聚苯乙烯泡沫塑料板,内层为碳末层。

所述真空层中间隔设置有圆柱形支撑柱,支撑柱与内层和保温层均垂直,且支撑柱的两端均与内层和保温层固定连接,支撑柱为木质材料。

所述合金层中的成分为铁、铜、铬、碳、钛、锰,其成分的质量比铁:铜:铬:碳:钛:锰为4.5:3.2:0.9:0.5:0.2:0.1,还含有其他微量元素。

所述真空层的上下表面均镀银,镀银层的厚度小于0.2mm,真空层上下表面的垂直距离为10~50mm,靠近碳末层的真空层的真空度为50~95kpa,靠近保温层的真空层的真空度为50~60kpa。

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