[发明专利]超声提高SU-8光刻胶与金属基底界面结合强度的方法有效

专利信息
申请号: 201310205724.5 申请日: 2013-05-28
公开(公告)号: CN103436923A 公开(公告)日: 2013-12-11
发明(设计)人: 杜立群;张晓蕾;王翱岸;赵明;赵珊珊 申请(专利权)人: 大连理工大学
主分类号: C25D1/10 分类号: C25D1/10;G03F7/26
代理公司: 大连理工大学专利中心 21200 代理人: 侯明远
地址: 116024*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要:
搜索关键词: 超声 提高 su 光刻 金属 基底 界面 结合 强度 方法
【权利要求书】:

1.一种超声提高SU-8光刻胶与金属基底界面结合强度的方法,通过在SU-8胶光刻的过程中对胶层进行超声处理来提高SU-8光刻胶与金属基底界面结合强度,其特征在于其步骤如下:

a.研磨、清洗金属基底并旋涂SU-8光刻胶

用1000号砂纸对金属基底进行研磨,使表面粗糙度Ra小于0.06μm;用丙酮擦洗基底并将其置于丙酮中超声清洗20~25min,再置于乙醇中超声清洗20~25min,经去离子水冲洗和氮气吹干,然后烘干;将烘干后的金属基底冷却至室温,在其表面旋转涂覆SU-8光刻胶;

b.前烘、曝光和后烘

将涂覆了SU-8光刻胶的金属基底置于烘箱中进行前烘,采用阶梯式逐渐升温的方式,前烘温度和时间分别为:65℃,2.5h;75℃,2.5h;85℃,1h,然后冷却至室温;曝光时间为2~4min,曝光剂量为350mJ/cm2~400mJ/cm2;将其放置在热板上进行后烘,热板温度为85℃,后烘时间为2~3min;后烘结束后,将涂覆SU-8光刻胶膜的基底从热板上取下,使其缓慢冷却,直至室温;

c.超声处理

将旋涂了SU-8光刻胶的金属基底固定到超声装置的工作台上,通过调节激励电流来改变超声功率,激励电流为0.4~0.8A,超声输入功率为150~350W,超声频率为20kHz,超声时间为10min;

d.显影

对超声处理后的SU-8光刻胶膜进行显影,显影3~5min后得到微电铸胶模型;用去离子水冲洗干净,再用氮气吹干。

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