[发明专利]光学系统、曝光装置以及制造器件的方法

权利要求书

1.一种光学系统，该光学系统沿着光路按照第1光学元件、第2光学元件、第3光学元件以及第4光学元件的顺序配置有第1光学元件、第2光学元件、第3光学元件以及第4光学元件，

在上述第3光学元件与上述第4光学元件之间形成有空间，

上述光学系统具备把上述第1光学元件和上述第2光学元件之间的光路与上述空间分离的构件。

2.根据权利要求1所述的光学系统，其特征在于，

上述构件与上述第3光学元件以及上述第4光学元件一起包围上述空间。

3.根据权利要求2所述的光学系统，其特征在于，

上述光学系统具备气体供给部和气体排出部，该气体供给部向被包围了的上述空间供给温度被控制了的气体，该气体排出部从上述空间排出上述气体。

4.根据权利要求1所述的光学系统，其特征在于，

上述第3光学元件与上述第4光学元件相比配置于上述光路的上游侧，

上述光学系统在上述光路的上述第4光学元件的下游侧具备吸收透过了上述第4光学元件的光的光吸收构件。

5.根据权利要求4所述的光学系统，其特征在于，

上述光学系统具备液体供给部和液体排出部，该液体供给部向上述光吸收构件的内部供给温度被控制了的液体，该液体排出部从上述光吸收构件的内部排出上述液体。

6.根据权利要求1所述的光学系统，其特征在于，

上述第3光学元件和上述第4光学元件被配置在上述光学系统的光瞳的附近。

7.根据权利要求1所述的光学系统，其特征在于，

上述第1光学元件是平面反射镜，上述第2光学元件是凹面反射镜，上述第3光学元件是凹凸透镜，上述第4光学元件是凸面反射镜。

8.根据权利要求7所述的光学系统，其特征在于，

上述凸面反射镜的反射面由电介体的膜构成。

9.一种曝光装置，该曝光装置经由投影光学系统把形成于掩模的图案投影到基板，并对上述基板进行曝光，

上述投影光学系统包括权利要求1至8中的任一项所述的光学系统。

10.一种制造器件的方法，包括，

使用权利要求9所述的曝光装置，对基板进行曝光；

使被曝光了的上述基板显影；

加工被显影了的上述基板，制造上述器件。