[发明专利]一种高损伤阈值二倍频光吸收材料的制备方法

权利要求书

1.一种高损伤阈值二倍频光吸收材料的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

（1）准备原料，其中各组分粉料的粒径为180～220微米，均为化学纯；配比如下：

玻璃组分    摩尔百分数mol%

根据摩尔百分比计算出以上各组分的重量百分比，称取原料混合均匀；

（2）将混合均匀后的原料加入钳锅中，加热熔融，熔制温度控制在1050--1150℃左右，并持续搅拌；

（3）待熔融得到澄清玻璃液后，降温至900-950℃，将高温的玻璃液注入到已经预热好的模具中成型；

（4）将装有玻璃液的模具放入马弗炉中，以10℃/小时进行退火，直到温度降至50℃，关闭马弗炉，待自然降至室温，取出成品，即为高损伤阈值的二倍频光吸收材料。

2.根据权利要求1所述的高损伤阈值二倍频光吸收材料的制备方法，其特征在于：步骤（1）采用的原料组分为AlF₃、BaF₂、MgF₂、SiO₂、Y₂O₃、CoO，所占摩尔百分数分别为40%、15%、25%、14%、2.5%、3.5%。

3.根据权利要求2所述的高损伤阈值二倍频光吸收材料的制备方法，其特征在于：步骤（2）中熔制温度控制在1100℃。