[发明专利]一种有机电致发光器件及其制备方法无效

专利信息
申请号: 201310210327.7 申请日: 2013-05-30
公开(公告)号: CN104218162A 公开(公告)日: 2014-12-17
发明(设计)人: 周明杰;冯小明;张振华;王平 申请(专利权)人: 海洋王照明科技股份有限公司;深圳市海洋王照明技术有限公司;深圳市海洋王照明工程有限公司
主分类号: H01L51/50 分类号: H01L51/50;H01L51/56
代理公司: 广州三环专利代理有限公司 44202 代理人: 郝传鑫;熊永强
地址: 518000 广东省深*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 有机 电致发光 器件 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种有机电致发光器件,包括依次层叠的透光基板、阳极、空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层、电子注入层和阴极,其特征在于,所述空穴传输层包括交替层叠的混合层和有机层,所述混合层和有机层的层数均大于等于2,所述混合层的材质为无机氧化物和有机材料形成的混合材料,所述无机氧化物与有机材料的质量比为0.3:1~1:1;所述有机材料为N,N'-二苯基-N,N'-二(1-萘基)-1,1'-联苯-4,4'-二胺、4,4',4''-三(咔唑-9-基)三苯胺、N,N'-二苯基-N,N'-二(3-甲基苯基)-1,1'-联苯-4,4'-二胺或N,N,N',N’-四甲氧基苯基)-对二氨基联苯;所述无机氧化物为三氧化钨、二氧化硅、五氧化二钕、三氧化铼或三氧化钼;所述有机层的材质为所述有机材料。

2.如权利要求1所述的有机电致发光器件,其特征在于,所述混合层的厚度为10~15nm,所述有机层的厚度为10~20nm。

3.如权利要求1所述的有机电致发光器件,其特征在于,所述混合层和有机层材质中含有相同的有机材料。

4.如权利要求1所述的有机电致发光器件,其特征在于,所述混合层和有机层的层数均为2~3层。

5.如权利要求1所述的有机电致发光器件,其特征在于,所述空穴注入层的材质为酞菁锌、酞菁铜、4,4',4''-三(2-萘基苯基氨基)三苯基胺或(4,4',4''-三(N-3-甲基苯基-N-苯基氨基)三苯胺)。

6.如权利要求1所述的有机电致发光器件,其特征在于,所述发光层的材质为荧光材料,或客体材料掺杂到主体材料形成的混合材料,所述客体材料为4-(二腈甲基)-2-丁基-6-(1,1,7,7-四甲基久洛呢啶-9-乙烯基)-4H-吡喃、双(4,6-二氟苯基吡啶-N,C2)吡啶甲酰合铱、双(4,6-二氟苯基吡啶)-四(1-吡唑基)硼酸合铱、二(2-甲基-二苯基[f,h]喹喔啉)(乙酰丙酮)合铱、三(1-苯基-异喹啉)合铱或三(2-苯基吡啶)合铱,所述主体材料为4,4'-二(9-咔唑)联苯、8-羟基喹啉铝、1,3,5-三(1-苯基-1H-苯并咪唑-2-基)苯或N,N'-二苯基-N,N'-二(1-萘基)-1,1'-联苯-4,4'-二胺,所述客体材料和主体材料的质量比为0.01:1~0.15:1;所述荧光材料为4,4'-二(2,2-二苯乙烯基)-1,1'-联苯、4,4'-双[4-(二对甲苯基氨基)苯乙烯基]联苯、5,6,11,12-四苯基萘并萘或二甲基喹吖啶酮。

7.一种有机电致发光器件的制备方法,其特征在于,包括以下操作步骤:

(1)在清洗干净后的透光基板上采用磁控溅射的方法制备阳极;在阳极上采用热阻蒸发的方法制备空穴注入层;

(2)在所述空穴注入层上制备空穴传输层,所述空穴传输层包括交替层叠的混合层和有机层,所述混合层和有机层的层数均大于等于2,所述混合层材质为无机氧化物和有机材料形成的混合材料,所述无机氧化物与有机材料的质量比为0.3:1~1:1;所述有机材料为N,N'-二苯基-N,N'-二(1-萘基)-1,1'-联苯-4,4'-二胺、4,4',4''-三(咔唑-9-基)三苯胺、N,N'-二苯基-N,N'-二(3-甲基苯基)-1,1'-联苯-4,4'-二胺或N,N,N',N’-四甲氧基苯基)-对二氨基联苯;所述无机氧化物为三氧化钨、二氧化硅、五氧化二钕、三氧化铼或三氧化钼;所述有机层的材质为所述有机材料,所述有机层采用热阻蒸发的方法制备,制备所述混合层时,所述混合层中的有机材料采用热阻蒸发的方法制备,所述混合层中的无机氧化物采用电子束蒸发的方法制备,所述制备时的工作压强为1×10-5~1×10-3Pa,所述热阻蒸发的蒸发速度为0.1~1nm/s,所述电子束的蒸发速度为0.1~0.5nm/s,所述电子束蒸发的能量密度为10~100W/cm2;所述电子束蒸发速率和热阻蒸发速率的速率比为0.3:1~1:1;

(3)在空穴传输层上依次热阻蒸发制备发光层、电子传输层、电子注入层和阴极,得到所述有机电致发光器件。

8.如权利要求7所述的有机电致发光器件的制备方法,其特征在于,所述混合层的厚度为10~15nm,所述有机层的厚度为10~20nm。

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