[发明专利]吸光层状结构体有效
申请号: | 201310211208.3 | 申请日: | 2013-05-31 |
公开(公告)号: | CN103454708A | 公开(公告)日: | 2013-12-18 |
发明(设计)人: | 威尔玛·德瓦尔德;伯恩德·西斯泽卡;阿尔伯特·卡斯特纳;扎比内·施奈德-贝茨;马丁·施洛特;马库斯·舒尔特海斯;詹斯·瓦格纳 | 申请(专利权)人: | 贺利氏材料工艺有限及两合公司;弗劳恩霍夫应用研究促进协会 |
主分类号: | G02B5/22 | 分类号: | G02B5/22;G02B1/02 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人: | 丁业平;金小芳 |
地址: | 德国*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 层状 结构 | ||
1.一种对于观察者呈现不透明的吸光层状结构体,所述吸光层状结构体包含:
面对所述观察者的正面子层(S1),所述正面子层由其中嵌有第一平均浓度的粒子(M1)的介电金属氧化物基质制成,所述粒子(M1)由导电材料制成;以及
背对所述观察者的背面子层(S2),所述背面子层由基质和嵌入其中的第二平均浓度的粒子(M2)制成,所述基质由所述金属氧化物制成,所述粒子(M2)由所述导电材料制成,所述第二平均浓度比所述第一平均浓度高;
其中所述金属氧化物含有氧化铌、氧化钛、氧化钼、氧化钨或氧化钒。
2.根据权利要求1所述的层状结构体,其特征在于所述导电材料含有金属。
3.根据权利要求2所述的层状结构体,其特征在于所述导电材料含有贵金属、铜、镍或所述物质的混合物,优选地含有银或银基合金。
4.根据前述权利要求中任一权利要求所述的层状结构体,其特征在于所述导电材料含有相对于所述金属粒子的总体积最大为1%的铬,而优选地是不含铬。
5.根据前述权利要求中任一权利要求所述的层状结构体,其特征在于由所述导电材料制成的所述粒子(M1)存在于所述正面子层(S1)中的浓度相对于所述正面子层(S1)的总体积在2体积%和8体积%之间,优选地在4体积%和6体积%之间。
6.根据前述权利要求中任一权利要求所述的层状结构体,其特征在于由所述导电材料制成的所述粒子(M2)存在于所述背面子层(S2)中的平均浓度相对于所述背面子层(S2)的总体积在15体积%和45体积%之间,优选地在20体积%和35体积%之间。
7.根据前述权利要求中任一权利要求所述的层状结构体,其特征在于所述正面子层(S1)的厚度小于50nm,优选地在20nm到40nm的范围内。
8.根据前述权利要求中任一权利要求所述的层状结构体,其特征在于所述背面子层(S2)的厚度小于200nm,优选地在70nm到100nm的范围内。
9.根据前述权利要求中任一权利要求所述的层状结构体,其特征在于正面子层(S1)和背面子层(S2)的总厚度在80nm到300nm的范围内,优选地在90nm到200nm的范围内。
10.根据前述权利要求中任一权利要求所述的层状结构体,其特征在于所述正面子层(S1)中的所述导电粒子(M1)的粒径小于5nm,其中优选至少80%的所述粒子(M1)的粒径小于3nm。
11.根据前述权利要求中任一权利要求所述的层状结构体,其特征在于所述背面子层(S2)中的所述导电粒子(M2)的粒径小于50nm,其中优选至少80%的所述粒子(M2)的粒径在2nm到20nm的范围内。
12.根据前述权利要求中任一权利要求所述的层状结构体,其特征在于由正面子层(S1)和背面层(S2)组成的层叠堆的薄层电阻大于1千欧/平方,优选地大于10千欧/平方,尤其优选地大于100千欧/平方。
13.根据前述权利要求中任一权利要求所述的层状结构体,其特征在于所述正面子层(S1)被施加到由透明材料制成的衬底(2)上。
14.根据权利要求13所述的层状结构体,其特征在于,按照从总反射率减去透明衬底(2)处的反射率4%来计算,所述层状结构体的相对于眼敏感度标准化的视觉反射率Rv小于5%,优选地小于2%。
15.根据前述权利要求中任一权利要求所述的层状结构体,其特征在于所述层状结构体的相对于眼敏感度标准化的视觉透射率Tv小于5%,优选地小于2%。
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