[发明专利]MWT太阳能电池片的制造方法

权利要求书

1.一种MWT太阳能电池片的制造方法，其特征在于，包括以下步骤：

S1：利用激光技术在制造MWT太阳能电池片的基底上形成过料孔，在所述基底背面且位于所述过料孔的周围的区域进行消融；

S2：在所述过料孔的内壁表面以及消融区域印刷腐蚀浆料，去除激光打孔和消融过程对所述基底带来的损伤。

2.根据权利要求1所述的MWT太阳能电池片的制造方法，其特征在于，采用丝网印刷的方式将所述腐蚀浆料印刷在所述过料孔的内壁表面以及所述消融区域。

3.根据权利要求1所述的MWT太阳能电池片的制造方法，其特征在于，印刷所述腐蚀浆料时，其印刷区域为以所述过料孔的中心为圆心，半径为0.5mm至5mm的圆所确定的区域。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的MWT太阳能电池片的制造方法，其特征在于，在所述S2的步骤之后还包括：对所述基底进行烘干，烘干时的温度为200℃至300℃，时间为2min至10min。

5.根据权利要求4所述的MWT太阳能电池片的制造方法，其特征在于，对所述基底进行烘干之后还包括：利用氢氟酸溶液和去离子水对所述基底进行清洗，清洗时间大于1min。

6.根据权利要求4所述的MWT太阳能电池片的制造方法，其特征在于，所述腐蚀浆料对所述过料孔的内壁表面以及所述消融区域的腐蚀深度为1nm至50nm。

7.根据权利要求1所述的MWT太阳能电池片的制造方法，其特征在于，所述过料孔的直径为50μm至500μm。

8.根据权利要求1所述的MWT太阳能电池片的制造方法，其特征在于，在所述S1的步骤之前还包括预处理步骤，所述预处理步骤包括：

对所述基底进行清洗、制绒；

利用高温扩散的方法在所述基底的正面形成发射极、在所述基底的背面形成背场；

对所述基底进行边缘刻蚀；

在所述基底的上下表面都形成SiNx层。

9.根据权利要求5所述的MWT太阳能电池片的制造方法，其特征在于，利用所述氢氟酸溶液和所述去离子水对所述基底进行清洗的步骤之后还包括：采用丝网印刷，对所述基底进行过孔浆料、背面栅线、正面栅线的印刷，最后对所述基底进行烧结。

10.根据权利要求2所述的MWT太阳能电池片的制造方法，其特征在于，印刷所述腐蚀浆料时，所述丝网上设置有一层防水膜。