[发明专利]有机材料、发光元件、发光装置、电子设备以及照明装置有效
申请号: | 201310217725.1 | 申请日: | 2013-05-31 |
公开(公告)号: | CN103456899B | 公开(公告)日: | 2017-03-01 |
发明(设计)人: | 井上英子;北野靖;滨田孝夫;濑尾哲史;铃木宏记;久保田朋广 | 申请(专利权)人: | 株式会社半导体能源研究所 |
主分类号: | H01L51/56 | 分类号: | H01L51/56;H01L51/50;H01L51/54;C07D409/10;C09K11/06 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所11038 | 代理人: | 李英 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 有机 材料 发光 元件 装置 电子设备 以及 照明 | ||
技术领域
本发明涉及一种有机材料以及使用该有机材料的发光元件。另外,本发明还涉及一种使用该发光元件的发光装置、电子设备以及照明装置。
背景技术
近年来,对于利用电致发光(EL:E1ectro luminescence)的发光元件的研究开发日益火热。作为这些发光元件的基本结构,有在一对电极之间夹有包含发光物质的层的结构。通过将电压施加到该发光元件,可以得到来源于发光物质的发光。
作为用于发光元件的EL层的EL材料,主要使用有机化合物,因为有机化合物对发光元件的元件特性的提高带来很大的影响,所以对各种新的有机化合物进行开发(例如,参照专利文献1)。
[现有技术文献]
[专利文献]
[专利文献1]日本专利申请公开2011-201869号公报
发明内容
发明要解决的课题
在有机化合物的合成中,虽然优选使用廉价的原料或简便的方法,但是有在原料中或合成时杂质容易混入到该有机化合物中的问题。另外,在很多情况下,该杂质在合成的精制过程中不能在技术上被去除而残留在中间体或最终生成物的有机材料中。另外,当使用残留有该杂质的有机材料形成发光元件时,导致该发光元件的元件特性或可靠性降低的问题。
鉴于上述问题,本发明的一个方式的目的之一是提供一种杂质被降低的新的有机材料,是提供一种包括该有机材料的发光元件,并且是提供一种使用该发光元件的发光装置、电子设备以及照明装置。
用于解决课题的手段
本发明的一个方式是通过将芳基卤化物与芳基硼酸或芳基硼酸酯偶合来得到的有机材料,其中芳基硼酸或芳基硼酸酯包含用氢取代芳基硼酸或芳基硼酸酯的氧硼基(boryl group)的第一杂质和对第一杂质的分子量加上分子量16或分子量17的第二杂质中的至少一方,并且除了第一杂质及第二杂质以外的其他杂质的浓度是1%以下。注意,所述第一杂质可以说是通过用氢取代芳基硼酸或芳基硼酸酯的氧硼基来得到的芳烃(arene)。
注意,芳基硼酸或芳基硼酸酯中的杂质浓度可以通过使用超高性能液相色谱(UPLC:Ultra high Performance Liquid Chroma tography)法进行测量。
当使用如下有机材料,即,通过将芳基卤化物与除了第一杂质及第二杂质以外的其他杂质的浓度是1%以下的高纯度芳基硼酸或芳基硼酸酯偶合来得到的有机材料,来制造发光元件时,可以提高该发光元件的元件特性或可靠性。尤其是,通过使用通过将芳基卤化物与上述高纯度芳基硼酸或芳基硼酸酯偶合来得到的有机材料,可以显著地提高发光元件的可靠性。
就是说,发明人发现:当在将芳基硼酸或芳基硼酸酯偶合之前去除不能通过对偶合之后的有机材料进行精制来去除的杂质(除了第一杂质及第二杂质以外的其他杂质)时,最后的有机材料的可靠性得到提高。另外,上述不能去除的杂质有时在偶合之后的有机材料中即使进行分析也不能检测出或不被检测出。该现象被认为是因为极微量的上述杂质包含在有机材料内部的缘故,并且因为偶合之后的有机材料的分子量比偶合之前的材料大,所以在包含微量的杂质的情况下难以检测出。
注意,即使在芳基硼酸或芳基硼酸酯中混入第一杂质及/或第二杂质,也不会对包括使用芳基硼酸或芳基硼酸酯来合成的有机材料的发光元件的可靠性造成不好影响。就是说,除了有机材料的收率的观点以外,上述第一杂质及/或第二杂质也可以(具体而言,以1%以上的浓度)包含在芳基硼酸或芳基硼酸酯中,并且重要的是充分去除其他杂质(具体而言,将其他杂质的浓度降低到1%以下)。
如上所述,本发明的一个方式的有机材料通过去除偶合之前的芳基硼酸或芳基硼酸酯中的杂质并高纯度化,可以得到优良效果,即,提高偶合之后的有机材料的纯度,并且提高使用该有机材料的发光元件的可靠性。
另外,本发明的一个方式是一种通过将芳基卤化物与芳基硼酸偶合来得到的有机材料,其中所述芳基硼酸包含用氢取代所述芳基硼酸的二羟基硼基(dihydroxyboryl group)的第一杂质和对所述第一杂质的分子量加上分子量16或分子量17的第二杂质中的至少一方,并且除了所述第一杂质及所述第二杂质以外的其他杂质的浓度是1%以下。
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