[发明专利]在粒子射线设备内调整支架元件的位置的方法

权利要求书

1.一种用于调整安置在粒子射线设备(1)内的支架元件(11)的位置的方法，其中，

-所述支架元件(11)设计用于支承物体，

-所述粒子射线设备(1)具有至少一个用于产生粒子射线的射线发生器(2)和至少一个用于聚焦粒子射线的物镜(6)，并且其中

-所述支架元件(11)设计借助至少一个第一步进电动机可运动，

其中，所述方法具有如下步骤：

-通过以作为交流电的第一电动机电流(I)操纵控制所述第一步进电动机，使所述支架元件(11)开始运动，

-将所述第一电动机电流(I)调节至第一频率和第一振幅，和

-通过减小所述第一电动机电流(I)的第一频率和第一振幅，对所述支架元件(11)的运动进行制动，其中，将所述第一频率在第一可预设时间区间(Δt₂)内减小至零，并且其中，将所述第一振幅在第一可预设时间区间(Δt₂)内减小至可预设的第一保持电流的振幅，在第一保持电流下，所述第一步进电动机处于静止状态，由此，尚在第一步进电动机运动过程中，便控制第一电动机电流达到停止位置。

2.根据权利要求1所述的方法，其中，

-所述支架元件(11)的起始运动包括在第二可预设时间区间(Δt₁)内的加速，和其中

-在第二可预设时间区间(Δt₁)内，对具有第一加速频率和第一加速振幅的所述第一电动机电流(I)进行控制，其中，所述第一加速频率和所述第一加速振幅在第二可预设时间区间(Δt₁)内发生变化，直至被调整到所述第一频率和所述第一振幅，其中，所述第一频率大于所述第一加速频率并且所述第一振幅大于所述第一加速振幅。

3.根据权利要求2所述的方法，其中，所述第一频率和/或所述第一振幅在第三可预设时间区间(Δt₃)内保持恒定。

4.根据权利要求3所述的方法，其中，

-使所述支架元件(11)沿至少一个第一平移轴移动，和/或

-使所述支架元件(11)沿至少一个第二平移轴移动，和/或

-使所述支架元件(11)沿至少一个第三平移轴移动。

5.根据权利要求4所述的方法，其中，所述第一平移轴和所述第二平移轴相互垂直定向。

6.根据权利要求5所述的方法，其中，所述第一平移轴、所述第二平移轴和/或所述第三平移轴相互垂直定向。

7.根据权利要求6所述的方法，其中，

-使所述支架元件(11)围绕至少一个第一转轴(17)转动，和/或

-使所述支架元件(11)围绕至少一个第二转轴(22)转动。

8.根据权利要求7所述的方法，其中，所述第一转轴(17)和所述第二转轴(22)相互垂直定向。

9.根据权利要求8所述的方法，其中，

-借助所述第一步进电动机使所述支架元件(11)沿所述第一平移轴移动，和/或

-借助第二步进电动机使所述支架元件(11)沿所述第二平移轴移动，和/或

-借助第三步进电动机使所述支架元件沿所述第三平移轴移动。