[发明专利]自适应光学设备、成像设备和自适应光学方法有效

专利信息
申请号: 201310219965.5 申请日: 2010-10-22
公开(公告)号: CN103349542A 公开(公告)日: 2013-10-16
发明(设计)人: 广濑太;齐藤贤一 申请(专利权)人: 佳能株式会社
主分类号: A61B3/14 分类号: A61B3/14;A61B3/12
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人: 陈华成
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 自适应 光学 设备 成像 方法
【权利要求书】:

1.一种自适应光学设备,包括:

第一空间光调制单元,该第一空间光调制单元被配置为调制光的两个偏振分量中的一个偏振分量的相位,所述光由光源发射;

第二空间光调制单元,该第二空间光调制单元被配置为调制所述两个偏振分量中的另一个偏振分量的相位;以及

多个反射式光学部件,所述多个反射式光学部件被设置为使得第一空间光调制单元和第二空间光调制单元设置在光学共轭的位置处。

2.根据权利要求1所述的自适应光学设备,还包括:

像差测量单元,该像差测量单元被配置为测量被检物的像差,

其中,第一空间光调制单元和第二空间光调制单元中的每一个被配置为在与像差测量单元光学共轭的位置处基于由像差测量单元获得的测量结果来调制光,所述光由光源发射。

3.根据权利要求2所述的自适应光学设备,

其中,被检物是被检者的眼睛,

在被检者的眼睛的眼前段中产生像差,以及

第一空间光调制单元和第二空间光调制单元中的每一个被设置在与眼前段光学共轭的位置处。

4.根据权利要求1所述的自适应光学设备,

其中,第一空间光调制单元和第二空间光调制单元被配置为在与被检物光学共轭的位置处分别调制返回光束的两个偏振分量,该返回光束是从被照射单元用所述光照射的被检物返回的。

5.根据权利要求1所述的自适应光学设备,

其中,第一空间光调制单元和第二空间光调制单元在光学上并联地设置或在光学上串联地设置。

6.根据权利要求1所述的自适应光学设备,

其中,第一空间光调制单元和第二空间光调制单元是液晶,并且

其中,所述液晶的取向彼此相交。

7.根据权利要求1所述的自适应光学设备,

其中,第一空间光调制单元被设置为调制p偏振光的相位,并且

其中,第二空间光调制单元被设置为调制s偏振光的相位。

8.根据权利要求7所述的自适应光学设备,还包括:

偏振光划分单元,该偏振光划分单元被配置为将由光源发射的光分离为p偏振光和s偏振光,以及

组合单元,该组合单元被配置为组合通过第一空间光调制单元的p偏振光和通过第二空间光调制单元的s偏振光。

9.根据权利要求1所述的自适应光学设备,还包括驱动单元,该驱动单元被配置为驱动第一空间光调制单元和第二空间光调制单元,以校正第一空间光调制单元和第二空间光调制单元的表面的变形。

10.根据权利要求1所述的自适应光学设备,其中,所述多个反射式光学部件中的至少一个是球面镜。

11.一种成像设备,包括:

根据权利要求1和4-10中任一项所述的自适应光学设备;以及

图像获取单元,该图像获取单元被配置为:基于在被照射单元用所述光照射被检物时从被检物返回的返回光束,获取被检物的图像。

12.根据权利要求11所述的成像设备,还包括:

划分单元,该划分单元被配置为:将由光源发射的光划分成进入第一空间光调制单元和第二空间光调制单元的光束和参考光束,

其中,图像获取单元被布置为基于由返回光束和参考光束之间的干涉而产生的干涉光束来获取被检物的层析图像。

13.一种成像设备,包括:

根据权利要求2或3所述的自适应光学设备;以及

图像获取单元,该图像获取单元被配置为:基于在被照射单元用所述光照射被检物时从被检物返回的返回光束,获取被检物的图像。

14.根据权利要求13所述的成像设备,还包括:

划分单元,该划分单元被配置为:将由光源发射的光划分成进入第一空间光调制单元和第二空间光调制单元的光束和参考光束,

其中,图像获取单元被布置为基于由返回光束和参考光束之间的干涉而产生的干涉光束来获取被检物的层析图像。

15.根据权利要求13所述的成像设备,

其中,被像差测量单元使用以测量像差的光和被使用来获取被检物的图像的光由相互不同的光源发射。

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