[发明专利]记录介质有效
申请号: | 201310221696.6 | 申请日: | 2013-06-05 |
公开(公告)号: | CN103465670A | 公开(公告)日: | 2013-12-25 |
发明(设计)人: | 浅尾昌也 | 申请(专利权)人: | 佳能株式会社 |
主分类号: | B41M5/50 | 分类号: | B41M5/50 |
代理公司: | 北京魏启学律师事务所 11398 | 代理人: | 魏启学 |
地址: | 日本东京都大*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 记录 介质 | ||
1.一种记录介质,其包含:基材,和形成在所述基材的至少一个表面上的墨接收层,其中
所述墨接收层含有无机颜料,粘结剂,以及含有铝、硅和选自元素周期表第2族和第3族元素的至少一种元素的化合物,并且
相对于所述无机颜料的含量,所述化合物的含量在0.1质量%-30质量%范围内。
2.根据权利要求1所述的记录介质,其中所述化合物具有将铝和选自元素周期表第2族和第3族元素的至少一种元素引入其中的硅氧烷键。
3.根据权利要求1所述的记录介质,其中所述化合物具有-Si-O-M-O-Si-结构和-Si-O-Al-O-Si-结构,其中M表示选自元素周期表第2族和第3族元素的至少一种元素。
4.根据权利要求1所述的记录介质,其中所述化合物中选自元素周期表第2族和第3族元素的至少一种元素的原子数是硅原子数的至少0.1倍且至多5倍。
5.根据权利要求1所述的记录介质,其中所述化合物中铝原子数是硅原子数的至少0.1倍且至多5倍。
6.根据权利要求1所述的记录介质,其中所述无机颜料是选自水合氧化铝和气相法二氧化硅的至少一种。
7.根据权利要求1所述的记录介质,其中所述无机颜料用所述化合物进行表面处理。
8.根据权利要求1所述的记录介质,其中所述化合物的制备包括:将含有选自元素周期表第2族和第3族元素的至少一种元素的化合物、含有铝的化合物和硅烷偶联剂加入到含有水和醇的至少任一种的液体溶剂中,随后在所述液体溶剂中使所述硅烷偶联剂水解和缩合。
9.根据权利要求1所述的记录介质,其中所述选自元素周期表第2族和第3族元素的至少一种元素选自镁、钙、锶、钇、镧和铈。
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