[发明专利]曝光设备和装置制造方法

权利要求书

1.一种针对每个曝光区来对衬底执行曝光的曝光设备，所述曝光设备包括：

台，被配置为在保持衬底时移动；

测量装置，被配置为测量所述台的振动；以及

控制器，所述控制器被配置为在第一衬底的曝光区的曝光时段期间由所述测量装置测量的所述台的振动超出容许范围时，改变在使第一衬底之后要曝光的第二衬底的位于与第一衬底的所述曝光区相同的位置处的曝光区曝光时的控制参数，以便提高曝光精度。

2.根据权利要求1所述的曝光设备，其中用来确定所述台的振动是否超出容许范围的指标包括如下中的一个：在曝光时段期间的所述台的振动的振幅的最大值、在曝光时段期间的所述台的振动的振幅的峰值的平均值、以及在曝光时段之中的其中所述台的振动的振幅不大于预定值的时段中的累积曝光量与曝光时段期间的累积曝光量的比。

3.根据权利要求1所述的曝光设备，其中用来确定所述台的振动是否超出容许范围的指标包括在通过将曝光时段分割成多个时段而获得的分割时段中的每一个中的所述台的振动的振幅的最大值，以及

在多个分割时段中的最大值中的至少一个超出为每个分割时段设定的容许范围时，所述控制器改变控制参数。

4.根据权利要求1所述的曝光设备，其中用来确定所述台的振动是否超出容许范围的指标包括在通过将曝光时段分割成多个时段而获得的分割时段中的每一个中的所述台的振动的振幅的峰值的平均值，以及

在多个分割时段中的平均值中的至少一个超出为每个分割时段设定的容许范围时，所述控制器改变控制参数。

5.根据权利要求1所述的曝光设备，其中用来确定所述台的振动是否超出容许范围的指标包括在通过将曝光时段分割成多个时段而获得的分割时段中的每一个分割时段之中的其中所述台的振动的振幅不大于预定值的时段中的累积曝光量与每个分割时段中的累积曝光量的比，以及

在多个分割时段中的比中的至少一个超出为每个分割时段设定的容许范围时，所述控制器改变控制参数。

6.根据权利要求1所述的曝光设备，其中控制参数包括曝光开始时间以及在曝光时段期间的所述台的位置、取向、速度和加速度中的至少一个。

7.根据权利要求1所述的曝光设备，其中在第一衬底的曝光区的曝光时段期间的所述台的振动落入容许范围内，并且在从曝光区的曝光开始起已经逝去了预定时间的时间处的所述台的振动的振幅小于预定值时，所述控制器将第二衬底的位于与第一衬底的所述曝光区相同的位置处的曝光区的曝光的开始提前。

8.根据权利要求1所述的曝光设备，其中在第一衬底的曝光区的曝光时段期间的所述台的振动落入容许范围内时，所述控制器没有改变在使第二衬底的位于与第一衬底的所述曝光区相同的位置处的曝光区曝光时的控制参数。

9.一种制造装置的方法，所述方法包括：

通过使用权利要求1到8中的任何一个所限定的针对每个曝光区对衬底执行曝光的曝光设备来使衬底暴露于辐射能量；

使曝光后的衬底显影；以及

处理显影后的衬底以便制造装置。