[发明专利]一种低辐射Low-E玻璃的制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及薄膜沉积技术领域，尤其涉及一种低辐射Low-E玻璃的制造方法。

背景技术

目前，低辐射Low-E玻璃作为一种节能、环保产品，已广泛应用在玻璃幕墙和汽车玻璃等技术领域。所述Low-E玻璃的制造设备和生产工艺在美国专利US6723211、US6576349、US6447891、US6461731、US6382528、US5514476、US5425861中已有详细记载。

通常地，所述Low-E玻璃的设计方向是：高可见光透过率、中性色、低辐射率、低方块电阻，以及具有好的耐加工性。高可见光透过率使得所述Low-E玻璃在类似于汽车玻璃、玻璃幕墙等应用领域中具有更强的适用性。低辐射率和低方块电阻特性使得所述Low-E玻璃能够有效的阻隔人们所不期望的红外热量进入室内。

但是，现有的Low-E玻璃生产方式很难同时获得高可将光透过率、低辐射率、低方块电阻，以及优异的耐加工特性。因为用于改善所述Low-E玻璃耐加工性能的材料通常会降低可将光透过率，或者导致Low-E玻璃颜色漂移。

典型地，所述Low-E玻璃包括一层或一层以上的红外反射层。所述红外反射层通常为类似于Ag、Au、Cu的金属或者是具有一定比例掺杂的Ag、Au、Cu材料。所述红外反射层的作用是阻隔红外热量进入室内。

一般说来，所述红外反射层的方块电阻越低，所述Low-E玻璃的红外反射特性越好。但是，直到现在还很难在不对可见光透过率和耐加工性等方面造成负面影响的情况下，降低所述红外反射层的方块电阻。例如，所述红外反射层的明显厚度变化，仅会降低所述Low-E玻璃的方块电阻，另一方面却对Low-E玻璃的耐加工性和光学特性造成负面影响。

寻求一种可降低Low-E玻璃方块电阻以改善红外反射特性，并对Low-E玻璃的可加工性和光学特性不会造成负面影响的方法已成为本行业亟待解决的问题之一。

故针对现有技术存在的问题，本案设计人凭借从事此行业多年的经验，积极研究改良，于是有了本发明一种Low-E玻璃制造方法。

发明内容

本发明是针对现有技术中，传统工艺不能实现在降低所述红外反射层的方块电阻和辐射率的同时，不对可见光透过率和耐加工性等方面造成负面影响等缺陷提供一种Low-E玻璃制造方法。

为了解决上述问题，本发明提供一种Low-E玻璃制造方法，所述Low-E玻璃制造方法包括：

步骤S1：提供玻璃基底；

步骤S2：在所述玻璃基底上形成至少第一电介质层；

步骤S3：在所述第一电介质层上沉积所述红外反射层，具体地，通过磁控溅射法在所述第一电介质层上沉积所述红外反射种子层，在所述红外反射种子层上通过离子束辅助沉积法沉积红外反射附加层；

步骤S4：在所述玻璃基底之红外反射层上沉积第二电介质层。

其中，所述步骤S3进一步包括：从所述离子束源发出的离子束轰击从所述磁控溅射装置之靶材上溅射出的镀膜粒子，以在所述红外反射层之红外反射种子层上连续沉积所述红外反射附加层。

其中，所述靶材优选为两支，其中之一用于磁控溅射形成所述红外反射层之红外反射种子层，另一支用于离子束辅助沉积形成所述红外反射层之红外反射附加层。

优选地，所述离子束的离子能量为150～700eV。

优选地，所述离子束源之阴、阳极的电压为300～1400V。

优选地，所述离子束辅助沉积形成所述红外反射层之红外反射附加层所用惰性气体高于所述磁控溅射法形成所述红外反射层之红外反射种子层所用惰性气体。

优选地，所述离子束辅助沉积形成所述红外反射层之红外反射附加层所用惰性气体高于所述磁控溅射法形成所述红外反射层之红外反射种子层所用惰性气体的20%。

优选地，所述离子束辅助沉积形成所述红外反射层之红外反射附加层所用惰性气体高于所述磁控溅射法形成所述红外反射层之红外反射种子层所用惰性气体的30%。

优选地，所述惰性气体为氩气Ar、氪气Kr、氙气Xe的其中之一或者其混合物。

综上所述，本发明所述Low-E玻璃制造方法所获得的Low-E玻璃具有以下特性：a. 方块电阻下降，改善红外反射特性；b. 辐射率变小；c. 阳光控制膜系的耐加工性能增强。同时，通过本发明所述Low-E玻璃的制造方法所获得的Low-E玻璃之红外反射层由原有的外向应力转变为内向应力，极大的改善所述阳光控制膜系的耐酸碱腐蚀性、抗氧化性、湿热性、耐高温性等。

附图说明