[发明专利]光栅扫描式立体印像机有效

专利信息
申请号: 201310226047.5 申请日: 2013-06-08
公开(公告)号: CN104238256B 公开(公告)日: 2017-01-25
发明(设计)人: 薄淑英;金勇 申请(专利权)人: 北京康得新三维科技有限责任公司
主分类号: G03B27/10 分类号: G03B27/10;G03B27/14
代理公司: 北京君恒知识产权代理事务所(普通合伙)11466 代理人: 黄启行,张璐
地址: 102200 北京市昌*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 光栅扫描 立体 印像
【权利要求书】:

1.一种光栅扫描式立体印像机,由曝光单元、冲洗系统组成,其特征在于,曝光单元由控制电脑、曝光光源、LCD屏、扫描光栅、感光材料固定平台及扫描位移机构构成,控制电脑将视差序列图像显示在LCD屏上,曝光光源将图像透过扫描光栅投射到感光材料上,控制电脑通过继电器精确控制曝光光源内各个LED灯组的时间进行曝光,曝光后微位移扫描光栅或感光材料,更换下一张视差序列图像进行曝光,通过多次曝光提高输出图像的分辨率。

2.如权利要求1所述的立体印像机,其特征还在于,扫描光栅采用狭缝光栅,基体是透明度好的光学玻璃,狭缝光栅位于玻璃正对感光材料的一面,与LCD屏之间间隔玻璃层,扫描光栅和感光材料紧靠在一起,相互之间可微移动,曝光光源由至少一组LED灯组成,LED灯组内包含至少一个红色、一个绿色、一个蓝色LED灯,紧密组合在一起,每色LED灯均可单独控制曝光时间,各组LED灯之间具有一定间距,在不同LED灯组照射下,LCD屏投影到扫描光栅上的图像相互错位形成插值关系,提高图像源的清晰度,减轻像素之间的网格痕迹。

3.如权利要求2所述的立体印像机,其特征还在于,图像源采用原生分辨率为PY*PX的黑白LCD屏,曝光光源由两个LED灯组构成,投影在扫描光栅上的图像在X方向错开半个像素,将RGB格式的视差序列图像非等比插值处理成(PY*3)*(PX*2),将颜色反相,在X方向隔行抽取像素重新组合成两幅RGB图像,分别标记为T1和T2,将T1按RGB颜色通道分解成3个灰度图像,分辨率为(PY*3)*PX,用一个LED灯组的红、绿、蓝LED灯分别曝光,将T2按RGB颜色通道分解成3个灰度图像,用另一个LED灯组的红、绿、蓝LED灯分别曝光。

4.如权利要求2所述的立体印像机,其特征还在于,图像源采用彩色LCD屏,曝光光源由6个LED灯组构成,相邻两组灯投影到扫描光栅上的图像在X方向错开半个像素,在Y方向错开1个子像素,将RGB格式的视差序列图像非等比插值处理成(PY*3)*(PX*2),将颜色反相,在X方向隔行抽取像素重新组合成两幅RGB图像,分别标记为T1和T2,将T1分解成3幅RGB图像,标记为G1(1)、G1(2)、G1(3),将T2分解成3幅RGB图像,标记为G2(4)、G2(5)、G2(6),每个分解图像对应的一个LED灯组进行曝光,一幅视差序列图曝光完毕后,扫描光栅或感光材料移动一个步长d,进行下一幅视差序列图像曝光,完整的曝光周期包括全部M次视差序列图像的曝光过程。

5.如权利要求2所述的立体印像机,其特征还在于,将RGB格式的视差序列图像等比插值处理成PY*PX,对于黑白LCD屏,按RGB颜色通道分解成3个灰度图像,采用1或2个灯组进行曝光,对于彩色LCD屏,直接将视差序列图像显示,采用3或6个灯组进行曝光。

6.如权利要求3、4或5所述的立体印像机,其特征还在于,将扫描光栅的栅线设计成与Y方向倾斜θ角度,来消除与立体光栅复合时产生的网纹,每完成一次视差序列图像曝光后,扫描位移机构在X方向微移动一个步长d,扫描光栅的栅距为P,总移动距离为D,D=M*d=P/cosθ,M为视差序列图像的数量,适当选取M的值,保证透过扫描光栅达到曝光阈值的扫描线的宽度低于步长的2倍,共分M步微移动完成整个立体照片的曝光。

7.如权利要求6所述的立体印像机,其特征还在于,扫描光栅倾斜角度θ的范围在15°~45°,视差序列图像的视差在X方向,LCD屏显示竖幅图像,曝光输出竖幅立体照片。

8.如权利要求6所述的立体印像机,其特征还在于,扫描光栅倾斜角度θ的范围在45°~75°,视差序列图像的视差在Y方向,LCD屏显示横幅图像,曝光输出横幅立体照片。

9.如权利要求2所述的立体印像机,其特征还在于,扫描光栅的栅距是投影的图像源像素点距的1或2倍,扫描光栅的栅线与Y方向的倾斜角度为0°,立体光栅为直纹光栅。

10.如权利要求6所述的立体印像机,其特征还在于,移动支架固定在滑块上,在扫描驱动模块的驱动下,滑块沿着滑轨在X方向移动,滑轨固定在支座上,扫描驱动模块的位移驱动由步进电机控制千分尺旋转实现,并用长度计实时测量位移量反馈给步进电机,位移精度可达1微米,移动支架可以驱动扫描光栅位移曝光,也可以驱动感光材料位移曝光。

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